原文传递
一种Ta/Ni微腔阵列薄膜及其制备方法
| 专利名称： | 一种Ta/Ni微腔阵列薄膜及其制备方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种Ta/Ni微腔阵列薄膜，包括导电衬底，所述导电衬底上设有Ni层，所述Ni层上设有Ta层；所述Ni层上设有多个有序排列的碗状孔，碗状孔开口朝上；所述Ta层具有碗状壳和设于碗状壳顶部的顶盖，碗状壳和顶盖合围形成微腔，所述碗状壳与碗状孔相对应，所述顶盖中部设有圆孔。还公开了一种Ta/Ni微腔阵列薄膜的制备方法，采用电解法在导电衬底上制得Ni层，采用磁控溅射法在Ni层上制得具有微腔结构的Ta层。Ta层的微腔结构有利于实现微溶液的存储和限域反应，增加薄膜的比表面积，有利于提高电化学分析时的灵敏度，制备方法工艺简单，成本低，生产效率高。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 重庆;50 |
| 申请人： | 西南大学 |
| 发明人： | 赵建伟;秦丽溶;赵敏;贾宏亮 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201810966578.0 |
| 公开号： | CN109239146A |
| 代理机构： | 重庆华科专利事务所 50123 |
| 代理人： | 徐先禄 |
| 分类号： | G01N27/30(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N27 |
| 申请人地址： | 400715 重庆市北碚区天生路2号 |
| 主权项： | 1.一种Ta/Ni微腔阵列薄膜，包括导电衬底，其特征在于：所述导电衬底（1）上设有Ni层（2），所述Ni层上设有Ta层；所述Ni层（2）上设有多个有序排列的碗状孔，碗状孔开口朝上；所述Ta层具有碗状壳（3）和设于碗状壳顶部的顶盖（4），碗状壳和顶盖合围形成微腔，所述碗状壳与碗状孔相对应，所述顶盖中部设有圆孔（5）。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
相关文献
检索历史
应用推荐
