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膜卷取装置及其控制方法、膜卷绕体及其制造方法
| 专利名称： | 膜卷取装置及其控制方法、膜卷绕体及其制造方法 |
| 摘要： | 本发明提供能够准确地确定膜卷绕体的内部应力来防止不良情况的膜卷取装置及其控制方法、膜卷绕体及其制造方法。膜卷取装置具备卷取辊和卷取张力调整装置。计算装置使用对将卷取张力与芯部的半径方向坐标相关联地表示的卷取张力函数进行显式表示的卷取方程式。基于计算装置所计算出的卷取张力分布函数来控制卷取张力调整装置。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 住友化学株式会社 |
| 发明人： | 坂本昭宣 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811390319.4 |
| 公开号： | CN109292503A |
| 代理机构： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
| 代理人： | 刘文海 |
| 分类号： | B65H18/10(2006.01)I;B;B65;B65H;B65H18 |
| 申请人地址： | 日本国东京都 |
| 主权项： | 1.一种膜卷取装置的控制方法，所述膜卷取装置至少具备：旋转驱动装置，其使卷取膜的芯部旋转；以及卷取张力调整装置，其调整卷取于所述芯部的所述膜的卷取张力，所述膜卷取装置的控制方法的特征在于，基于通过非线性规划法而获得的最佳卷取张力函数来控制所述卷取张力调整装置，所述非线性规划法使用卷取方程式，所述卷取方程式是包含应力函数、残留应变应力函数以及卷取张力函数且显式表示所述卷取张力函数的方程式，所述应力函数是表示由所述芯部和卷取于所述芯部的所述膜构成的膜卷绕体内部的所述膜中的半径方向应力的函数，所述残留应变应力函数是表示残留在所述膜卷绕体内部的所述膜上的应变所引起的应力的函数，所述卷取张力函数是将所述卷取张力与所述芯部的半径方向坐标相关联地表示的函数，在所述非线性规划法中，将对所述膜卷绕体的半径进行分割而得到的多个位置处的所述卷取张力函数的多个值设为设计变量，将在更新所述设计变量以使扩张目的函数的值最小的情况下所述设计变量不再变化时的所述卷取张力函数设为所述最佳卷取张力函数，其中，所述扩张目的函数是目的函数与基于制约条件函数的惩罚函数相加而得到的函数，(1)所述目的函数至少以所述膜卷绕体中的切线方向应力以及所述膜的层间的摩擦力为参数，(2)所述制约条件函数以使所述切线方向应力的最小值取非负的值的方式对所述切线方向应力的最小值进行制约，且以使所述摩擦力成为会产生所述膜的滑移的临界摩擦力以上的方式对所述摩擦力进行制约。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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