专利名称: |
盖支架 |
摘要: |
本发明提供一种盖支架,该盖支架针对离心涂抹装置的密闭旋转容器的盖,不必在桌上确保较大的空间,就能够以靠立的状态且是能够防止液体滴落的方式收纳,不论操作者的惯用手是左手还是右手,都能够同样地降低与液体检查用材料相接触的风险。本发明的盖支架(1)供盖(142)以靠立的方式放置,该盖(142)嵌装于离心涂抹装置(130)的密闭旋转容器(134),且在周缘部(142d)具有向径向突出的凸缘部(151)和向背面方向突出的圆筒状的飞溅保护壁(160),在该盖支架中,在中央位置配设有中央支承构件(10),该中央支承构件(10)在其一侧和另一侧这两侧具有用于支承所述盖(142)的中心附近部(142c)的上方支承部(12),在相对于所述中央支承构件(10)成为一侧和另一侧的两侧位置配设有侧方支承构件(20),该侧方支承构件(20)具有用于支承所述盖(142)的周缘部(142d)的下方支承部(22)。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
樱花精机株式会社;日本樱花检验仪器株式会社 |
发明人: |
长林哲 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201780040010.X |
公开号: |
CN109328298A |
代理机构: |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人: |
刘新宇;张会华 |
分类号: |
G01N1/28(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N1 |
申请人地址: |
日本长野县 |
主权项: |
1.一种盖支架,其供盖以靠立的方式放置,该盖嵌装于离心涂抹装置的密闭旋转容器,且在周缘部具有向径向突出的凸缘部和向背面方向突出的圆筒状的飞溅保护壁,该盖支架的特征在于,在中央位置配设有中央支承构件,该中央支承构件在其一侧和另一侧这两侧具有用于支承所述盖的中心附近部的上方支承部,在相对于所述中央支承构件成为一侧和另一侧的两侧位置配设有侧方支承构件,该侧方支承构件具有用于支承所述盖的周缘部的下方支承部。 |
所属类别: |
发明专利 |