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具有光电二极管的集成闪烁体网格
| 专利名称： | 具有光电二极管的集成闪烁体网格 |
| 摘要： | 描述了X射线成像系统的各种实施例。在一个方面中，X射线成像系统包含硅晶片，硅晶片包含第一侧和与第一侧相反的第二侧。硅晶片还包含硅晶片的第一侧上的光电二极管阵列，光电二极管彼此电隔离，以及硅晶片的第二侧上的网格孔阵列。网格孔阵列中的每个网格孔与光电二极管阵列的各个光电二极管对准。X射线成像系统还包含设置在硅晶片的第二侧上的网格孔阵列之上的闪烁材料层。X射线成像系统还包含设置在闪烁材料层上的反射材料层。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | 泰拉派德系统股份有限公司;马德休卡.B.沃拉;布赖恩.罗德里克斯 |
| 发明人： | 马德休卡.B.沃拉;布赖恩.罗德里克斯 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201710138113.1 |
| 公开号： | CN109342465A |
| 代理机构： | 北京市柳沈律师事务所 11105 |
| 代理人： | 邱军 |
| 分类号： | G01N23/04(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
| 申请人地址： | 美国加利福尼亚州 |
| 主权项： | 1.一种X射线成像系统，包括：硅晶片，包括第一侧和与所述第一侧相反的第二侧，所述硅晶片还包括：在所述硅晶片的所述第一侧上的光电二极管阵列，所述光电二极管彼此电隔离；以及在所述硅晶片的所述第二侧上的网格孔阵列，所述网格孔阵列的每个网格孔与所述光电二极管阵列的各个光电二极管对准；闪烁材料层，设置在所述硅晶片的所述第二侧上的所述网格孔阵列之上；以及反射材料层，设置在所述闪烁材料层上。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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