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一种适用于染色机的玻片放置框架
| 专利名称： | 一种适用于染色机的玻片放置框架 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种适用于染色机的玻片放置框架，包括框架本体、玻片支撑机构及导流机构；导流机构及支撑机构均设置在框架本体内壁，玻片支撑机构设置在导流机构下方；框架本体内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽，每一内清理凹槽均设置在玻片支撑机构下方，框架本体外壁设有多个可放置吸水材料的外清理凹槽，每一外清理凹槽均与导流机构连通，内清理凹槽及外清理凹槽内均设有吸水性材料。本实用新型所述的一种适用于染色机的玻片放置框架，解决了由于传统全自动染色机工作过程中，因其机械臂提拉玻片容易把试剂或染液低落在机器内部，造成机器内部的污染盒脏乱，容易引起环境的部卫生和后期清洁打扫的不方便。 |
| 专利类型： | 实用新型 |
| 国家地区组织代码： | 天津;12 |
| 申请人： | 中检科健（天津）检验检测有限责任公司 |
| 发明人： | 崔颖;张晓峰;郭美芝;景燕平;张子秀 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201821204335.5 |
| 公开号： | CN208505730U |
| 代理机构： | 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 |
| 代理人： | 韩敏 |
| 分类号： | G01N1/31(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N1 |
| 申请人地址： | 300300 天津市东丽区东丽湖天骥智谷汇智商务园20号楼一层 |
| 主权项： | 1.一种适用于染色机的玻片放置框架，其特征在于：包括框架本体(101)、玻片支撑机构及导流机构；所述导流机构及支撑机构均设置在框架本体(101)内壁，玻片支撑机构设置在所述导流机构下方；所述框架本体(101)内壁设有多个可放置吸水材料的内清理凹槽(103)，每一所述内清理凹槽(103)均设置在所述玻片支撑机构下方，所述框架本体(101)外壁设有多个可放置吸水材料的外清理凹槽(104)，每一所述外清理凹槽(104)均与所述导流机构连通，所述内清理凹槽(103)及外清理凹槽(104)内均设有吸水性材料。 |
| 所属类别： | 实用新型 |
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