专利名称: |
一种省空间可翻转式曝光框架 |
摘要: |
本发明公开一种省空间可翻转式曝光框架,包括两个对称的浮动机构和上框,两个浮动机构的同一端均设有能够带动上框一同翻转一定角度的移框翻转机构,移框翻转机构带动上框转动至曝光室位置时、移框翻转机构与浮动机构平行。本发明采用翻转式结构,带动上框能够实现不同角度方位的清洁,该发明设计新颖、结构简单,可有效地预防底片清洁存在的死角,同时还可用放大镜检查清洁后质量以及异常处理,既方便又实用,还不占用正常过道空间,提高了PCB产品合格率及降低返工成本。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
东莞市多普技术研发有限公司 |
发明人: |
李诚;邱田生;陈振才 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811346375.8 |
公开号: |
CN109384026A |
代理机构: |
广东莞信律师事务所 44332 |
代理人: |
钟宇宏 |
分类号: |
B65G47/248(2006.01)I;B;B65;B65G;B65G47 |
申请人地址: |
523000 广东省东莞市松山湖高新技术产业开发区沁园路17号北京大学东莞光电研究院B栋9层 |
主权项: |
1.一种省空间可翻转式曝光框架,包括两个对称的浮动机构和上框,其特征在于,两个所述浮动机构的同一端均设有能够带动所述上框一同翻转一定角度的移框翻转机构,所述移框翻转机构带动所述上框转动至曝光室位置时、所述移框翻转机构与所述浮动机构平行,所述移框翻转机构与所述浮动机构平行时,所述上框能够水平滑动。 |
所属类别: |
发明专利 |