专利名称: |
一种XRD原位电化学辅助装置及原位XRD电池 |
摘要: |
本实用新型提供一种XRD原位电化学辅助装置及原位XRD电池,涉及电化学仪器领域。具体包括:上密封盖、下密封盖和套筒;上密封盖主体中心设有所述套筒第一安装部,套筒第一安装部为一凹槽,观测窗与套筒第一安装部的底部连通;下密封盖主体与上密封盖主体的相对侧设置有套筒第二安装部,套筒第二安装部为与第一安装部匹配的凹槽,套筒第二安装部的周围对应设有密封槽,密封槽内设有密封件,极线孔与套筒第二安装部的底部连通;上密封盖和下密封盖通过螺栓固定,套筒设置在套筒第一安装部和套筒第二安装部内。相对于现有技术使得辅助装置的组件更少、气密性更好、结构更加简单操作更加方便。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
湖北;42 |
申请人: |
湖北工程学院 |
发明人: |
杜军;王锋 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201821227275.9 |
公开号: |
CN208547593U |
代理机构: |
北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 |
代理人: |
余剑琴 |
分类号: |
G01N23/207(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
432000 湖北省孝感市交通大道272号 |
主权项: |
1.一种XRD原位电化学辅助装置,其特征在于,包括:上密封盖、下密封盖和套筒;所述上密封盖包括:上密封盖主体、观测窗和套筒第一安装部;所述上密封盖主体中心设有所述套筒第一安装部,所述套筒第一安装部为一凹槽,所述观测窗与所述套筒第一安装部的底部连通;所述下密封盖包括:下密封盖主体、密封槽、密封件、套筒第二安装部和极线孔;所述下密封盖主体与所述上密封盖主体的相对侧设置有所述套筒第二安装部,所述套筒第二安装部为与所述第一安装部匹配的凹槽,所述套筒第二安装部的周围对应设有密封槽,所述密封槽内设有密封件,所述极线与所述套筒第二安装部的底部连通;所述上密封盖和所述下密封盖通过螺栓固定,所述套筒设置在所述套筒第一安装部和所述套筒第二安装部内。 |
所属类别: |
实用新型 |