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一种上软下硬富水地层深基坑逆作施工方法
| 专利名称： | 一种上软下硬富水地层深基坑逆作施工方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种上软下硬富水地层深基坑逆作施工方法，包括以下步骤：步骤1）地下连续墙施工；步骤2）相割型钻孔灌注排桩施工；步骤3）软硬地层交界面注浆帷幕施工；步骤4）开挖首层小基坑，预留核心土；步骤5）设置防排水结构层及初期支护；步骤6）开挖首层基坑中预留核心土；步骤7）设置首层支撑体系；步骤8）通过监控量测结果判定围护结构稳定性，如监控量测结果正常，则进行下一循环，重复步骤4）‑步骤7），直至基坑底板封闭。本发明通过基坑内外围护结构的联合作用及开挖方法的合理设计，以保证上软下硬富水地层深基坑工程在安全、高效开挖的基础上达到有效止水及变形控制的效果。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 福建;35 |
| 申请人： | 福建工程学院 |
| 发明人： | 姚志雄 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811300182.9 |
| 公开号： | CN109403333A |
| 代理机构： | 北京市科名专利代理事务所(特殊普通合伙) 11468 |
| 代理人： | 陈朝阳 |
| 分类号： | E02D17/02(2006.01)I;E;E02;E02D;E02D17 |
| 申请人地址： | 350108 福建省福州市大学新区学府南路33号 |
| 主权项： | 1.一种上软下硬富水地层深基坑逆作施工方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1）地下连续墙施工，在基坑开挖线外侧施作地下连续墙，地下连续墙深度贯入土层‑岩层交界面以下预定的设计深度，形成初层围护防渗结构层；步骤2）相割型钻孔灌注排桩施工，在地下连续墙外侧施作相割型钻孔灌注排桩，相割型钻孔灌注排桩深度达到软硬地层交界面位置，形成二层围护防渗结构层；步骤3）软硬地层交界面注浆帷幕施工，在相割型钻孔灌注排桩中心钻孔至软硬交界面，通过高压旋喷注浆或使用袖阀管注浆封堵软硬交界面裂隙，形成软硬地层交界面注浆帷幕；步骤4）开挖首层基坑，自上而下分层采用预留核心土法分部开挖小基坑，预留核心土；步骤5）设置防排水结构层及初期支护，在已开挖的直立基坑壁铺设防排水结构层，并全环施作初期支护，形成封闭柔性支护结构层；步骤6）开挖首层基坑中预留核心土；步骤7）设置首层基坑横向围檩，在对应横向围檩间架设钢制横撑，形成首层支撑体系；步骤8）通过监控量测结果判定围护结构稳定性，如监控量测结果正常，则进行下一循环，重复步骤4）‑步骤7），直至基坑底板封闭。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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