专利名称: |
用于流体移动控制的微流体设备 |
摘要: |
根据一个示例,一种微流体设备可包括流体槽和腔室,所述腔室通过与所述腔室相比具有相对较小宽度的通道与所述流体槽流体连通。所述微流体设备还可以包括:电传感器,其测量由通过所述通道从所述流体槽到所述腔室的流体中的所关注的颗粒引起的电场的变化;致动器,其将压力施加于包含在所述腔室中的流体上;以及控制器,其从所述电传感器接收所测量的所述电场的变化,根据所接收的所述电场的变化来确定所述所关注的颗粒的电特征,并且控制所述致动器,以基于所确定的所述所关注的颗粒的电特征来控制所述所关注的颗粒的移动。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
美国;US |
申请人: |
惠普发展公司,有限责任合伙企业 |
发明人: |
C·多明格;T·伍德福德;M·吉里;M·D·史密斯;G·H·科里根三世;M·扎瓦雷希;J·M·余 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201680087192.1 |
公开号: |
CN109416311A |
代理机构: |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人: |
佘鹏;王丽辉 |
分类号: |
G01N15/10(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N15 |
申请人地址: |
美国德克萨斯州 |
主权项: |
1.一种微流体设备,包括:流体槽;腔室,其中所述腔室通过与所述腔室相比具有相对较小宽度的通道与所述流体槽流体连通;电传感器,其测量由通过所述通道从所述流体槽到所述腔室的流体中的所关注的颗粒引起的电场的变化;致动器,其将压力施加于包含在所述腔室中的流体上;以及控制器,其从所述电传感器接收所测量的所述电场的变化,根据所接收的所述电场的变化来确定所述所关注的颗粒的电特征,并且控制所述致动器,以基于所确定的所述所关注的颗粒的电特征来控制所述所关注的颗粒的移动。 |
所属类别: |
发明专利 |