专利名称: |
一种大尺度单裂隙岩体应力渗流耦合试验的样品制备方法 |
摘要: |
本发明属于岩体渗流试验技术领域,具体涉及一种大尺度单裂隙岩体应力渗流耦合试验的样品制备方法。本发明将两块材质相同的岩体上下摞列放置,上位裂隙岩体的下表面和下位裂隙岩体的上表面形成接触面;下位裂隙岩体的上表面设有一圈凹槽,凹槽内放置密封圈;上位裂隙岩体内部上下贯通钻取若干通孔,并且通孔的下端面均包含在下位裂隙岩体密封圈所围住的区域内;水流从上位裂隙岩体的部分通孔流入,在接触面密封圈内部渗流,进而通过上位裂隙岩体的其余通孔流出。本发明无需借助一定体积的空腔包裹,渗透性能测试结果能够准确反映裂隙岩体自身在力学作用下的力学性能,适用于常规的厘米级尺度及米级以上尺度等各种尺度状态下的裂隙岩体渗流密封。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
核工业北京地质研究院 |
发明人: |
满轲 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201710741091.8 |
公开号: |
CN109425520A |
代理机构: |
核工业专利中心 11007 |
代理人: |
包海燕 |
分类号: |
G01N1/28(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N1 |
申请人地址: |
100029 北京市朝阳区小关东里十号院 |
主权项: |
1.一种大尺度单裂隙岩体应力渗流耦合试验的样品制备方法,其特征在于:包括以下步骤:将两块材质相同的岩体上下摞列放置,上位裂隙岩体(1)的下表面和下位裂隙岩体(2)的上表面形成接触面;下位裂隙岩体(2)的上表面设有一圈凹槽(5),凹槽(5)内放置密封圈(7);上位裂隙岩体(1)内部上下贯通钻取若干通孔(3),并且通孔下端面(4)均包含在下位裂隙岩体(2)密封圈(7)所围住的区域内;水流从上位裂隙岩体(1)的部分通孔(3)流入,在接触面密封圈(7)内部渗流,进而通过上位裂隙岩体(1)的其余通孔(3)流出;装载上位裂隙岩体(1)、下位裂隙岩体(2)后,实施上压力(8)、下压力(9)加载,实现裂隙岩体法向应力‑渗流耦合试验。 |
所属类别: |
发明专利 |