专利名称: |
一种参数可控式单/多颗磨粒高速刻划实验装置 |
摘要: |
本发明公开了一种参数可控式单/多颗磨粒高速刻划实验装置,机床主轴带动回转圆盘绕主轴转动,工件通过镶块固定于圆盘基体的侧壁表面,圆盘可在主轴带动下于Y轴移动以改变刻划深度;精密移动工作台可带动旋转式转接板、刻划装置在X向移动,旋转式转接板可通过夹具板夹持三组刻划装置;三组刻划装置分别布置单颗磨粒、两颗磨粒、四颗磨粒及距离微调装置,距离微调装置可调整磨粒压头在Y方向小幅度运动以调整磨粒露出高度。工作台沿X方向移动可调节刻划间距,旋转式转接板以Y向为轴旋转;高速工业相机可与测力仪配合完成对刀并实时拍摄监控磨粒状态,该实验装置可用于多参数正交下的单/多颗磨粒高速刻划实验。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
黑龙江;23 |
申请人: |
哈尔滨理工大学 |
发明人: |
刘献礼;仲冬维;刘立飞 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811560691.5 |
公开号: |
CN109459332A |
分类号: |
G01N3/58(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N3 |
申请人地址: |
150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路52号 |
主权项: |
1.一种参数可控式单/多颗磨粒耦合高速刻划实验装置,其特征在于包括所述回转圆盘(12)的侧壁表面设有可固定工件的镶块,在其以圆盘圆心为对称中心的另一侧面设有平衡块,工件钎焊于镶块,所述镶块通过螺栓与圆盘基体连接,所述工件刻划表面保证粗糙度Ra低于2μm,其对称表面所述平衡块质量与工件镶块一致以保证圆盘基体平衡;所述刻划装置包括磨粒块、单/多颗金刚石磨粒压头(13)、距离微调装置(14),所述磨粒块设有导轨,磨粒块表面设有刻度尺,所述金刚石磨粒压头与距离微调装置装设于磨粒块导轨上,所述距离微调装置与金刚石压头柄采用间隙配合。 |
所属类别: |
发明专利 |