专利名称: |
一种遮挡式暗场共焦亚表面无损检测装置和方法 |
摘要: |
本发明提供一种遮挡式暗场共焦亚表面无损检测装置和方法,属于光学精密测量技术领域。点光源发出的光依次经过准直镜、遮挡式环形光发生器、分光棱镜和物镜,物镜将激光汇聚至待测样品,载有待测样品信息的反射光和散射光依次经过物镜和分光棱镜,入射至探测互补光阑,反射光被探测互补光阑遮挡,散射光依次经过探测互补光阑、收集透镜和探测针孔,最终入射至光电探测器,从而完成对亚表面的检测。本发明采用遮挡式环形光发生器生成环形光,采用环形光束照明样品,结合探测互补光阑实现暗场共焦,解决了普通共焦显微技术检测亚表面损伤信噪比低的问题,装置简单易于实现,适用于亚表面无损检测。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
黑龙江;23 |
申请人: |
哈尔滨工业大学 |
发明人: |
刘俭;刘婧;王宇航;刘辰光;谭久彬 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811497522.1 |
公开号: |
CN109470711A |
代理机构: |
北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 |
代理人: |
李冉 |
分类号: |
G01N21/88(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |
主权项: |
1.一种遮挡式暗场共焦亚表面无损检测装置,其特征在于,包括:照明系统和探测系统;所述照明系统包括点光源(1)、准直镜(2)、遮挡式环形光发生器(3)、分光棱镜(4)和物镜(5);所述遮挡式环形光发生器(3)中心被遮挡;所述点光源(1)发出的光线依次经过所述准直镜(2)、所述遮挡式环形光发生器(3)和分光棱镜(4),所述分光棱镜(4)产生分光棱镜反射光和透射光,所述透射光透射至所述物镜(5),最终光线聚焦至待测样品(6)上;所述探测系统包括物镜(5)、分光棱镜(4)、探测互补光阑(7)、收集透镜(8)、探测针孔(9)、光电探测器(10);其中所述照明系统和探测系统共用分光棱镜(4)和物镜(5);所述分光棱镜反射光入射至所述探测互补光阑(7);所述待测样品(6)上产生样品反射光和散射光,所述样品反射光和所述散射光依次经所述物镜(5)、所述分光棱镜(4)、所述探测互补光阑(7)、所述收集透镜(8)和所述探测针孔(9)入射至所述光电探测器(10)。 |
所属类别: |
发明专利 |