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允许更高光强度的利用时间相关单光子计数的荧光寿命成像显微学方法
| 专利名称： | 允许更高光强度的利用时间相关单光子计数的荧光寿命成像显微学方法 |
| 摘要： | 说明了一种利用时间相关单光子计数的荧光寿命成像显微学方法，其中借助脉冲式光源(12)周期性地以激发光脉冲对样品(36)进行激发以发射荧光光子，其中在每两个相继的激发光脉冲之间定义测量间隔；借助探测器(42)检测所述荧光光子并且产生代表检测到的荧光光子的模拟探测器信号；基于所述探测器信号确定探测时间，所述荧光光子在相应的测量间隔内在所述探测时间上被所述探测器(42)探测到；基于检测到的荧光光子的探测时间，确定至少一个表征荧光衰减特性的参量，以及借助所述表征参量进行成像。在相应的测量间隔内在多个采样间隔内对所述模拟探测器信号进行采样并且将所述模拟探测器信号转换成离散的配属于各个采样间隔的信号值的序列。借助属于相应的测量间隔的离散信号值序列，确定在该测量间隔内是否检测到多于预定数量的荧光光子。当检测到多于该预定数量的荧光光子时，放弃将该测量间隔用于确定所述表征参量。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 德国;DE |
| 申请人： | 徕卡显微系统复合显微镜有限公司 |
| 发明人： | V·塞弗里德;B·威兹高斯基;F·赫克特 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201780043767.4 |
| 公开号： | CN109477796A |
| 代理机构： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 |
| 代理人： | 王勇 |
| 分类号： | G01N21/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 德国韦茨拉尔 |
| 主权项： | 1.一种利用时间相关单光子计数的荧光寿命成像显微学方法，其中借助脉冲式光源(12)周期性地以激发光脉冲对样品(36)进行激发以发射荧光光子，其中在每两个相继的激发光脉冲之间定义测量间隔；借助探测器(42)检测所述荧光光子并且产生代表检测到的荧光光子的模拟探测器信号；基于所述探测器信号确定探测时间，所述荧光光子在相应的测量间隔内在所述探测时间上被所述探测器探测到；基于检测到的荧光光子的探测时间，确定至少一个表征荧光衰减特性的参量；以及借助所述表征参量进行成像；其特征在于，在相应的测量间隔内在多个采样间隔内对所述模拟探测器信号进行采样并且将所述模拟探测器信号转换成离散的配属于各个采样间隔的信号值的序列；以及借助属于相应的测量间隔的离散信号值序列，确定在该测量间隔内是否检测到多于预定数量的荧光光子，并且当检测到多于该预定数量的荧光光子时，放弃将该测量间隔用于确定所述表征荧光衰减特性的参量，其中所述预定数量等于或大于1。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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