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原文传递 化学发光底物液及其应用
专利名称: 化学发光底物液及其应用
摘要: 本发明涉及一种化学发光底物液。该化学发光底物液包括如下组分:150mg/L的(4‑氯苯巯基)(10‑甲基‑9,10‑二氢化吖啶亚甲基)磷酸二钠盐、10mmol/L‑500mmol/L的缓冲基质、0.1mg/L‑20mg/L的荧光增强物质、10mg/L‑5000mg/L的本底发光抑制物质及0.1g/L‑10g/L的表面活性剂;化学发光底物液的pH为8‑11,本底发光抑制物质为具有弱还原性的无机还原剂或者具有弱还原性的有机还原剂,表面活性剂为非离子表面活性剂与阴离子表面活性剂的混合物或者为非离子表面活性剂与阳离子表面活性剂的混合物。上述化学发光底物液达到发光平台期时间短、发光持续时间长,检测灵敏度高且光稳定性好,可以提高临床免疫检测速度,缩短检测时间。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 广东;44
申请人: 深圳天深医疗器械有限公司
发明人: 刘挺;邓月月;姚天成
专利状态: 有效
申请号: CN201811215406.6
公开号: CN109490281A
代理机构: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人: 潘霞
分类号: G01N21/76(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21
申请人地址: 518101 广东省深圳市宝安区沙井街道后亭茅洲山工业园工业大厦全至科技创新园科创大厦10层F、10层G、11层F、11层G
主权项: 1.一种化学发光底物液,其特征在于,所述化学发光底物液包括如下组分:150mg/L的(4‑氯苯巯基)(10‑甲基‑9,10‑二氢化吖啶亚甲基)磷酸二钠盐、10mmol/L‑500mmol/L的缓冲基质、0.1mg/L‑20mg/L的荧光增强物质、10mg/L‑5000mg/L的本底发光抑制物质及0.1g/L‑10g/L的表面活性剂;所述化学发光底物液的pH为8‑11,所述本底发光抑制物质为具有弱还原性的无机还原剂或者具有弱还原性的有机还原剂,所述表面活性剂为非离子表面活性剂与阴离子表面活性剂的混合物或者为非离子表面活性剂与阳离子表面活性剂的混合物。
所属类别: 发明专利
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