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一种监测缓冲腔体氧气浓度的方法
| 专利名称： | 一种监测缓冲腔体氧气浓度的方法 |
| 摘要： | 本发明公开一种监测缓冲腔体氧气浓度的方法，包括：一缓冲腔体，缓冲腔体内设有一机械手臂，机械手臂用于传送器件；一去耦合等离子氮化腔体，去耦合等离子氮化腔体与缓冲腔体连接，去耦合等离子氮化腔体用于对器件进行掺氮工艺；一传感器，传感器与缓冲腔体连接，用于监测缓冲腔体内的氧气浓度。本发明的有益效果在于：通过在缓冲腔体上连接一传感器，对缓冲腔体内的氧气浓度进行实时监测，以防缓冲腔体内氧浓度过高的气体混入去耦合等离子氮化腔体，对掺氮工艺产生影响，进一步地避免因掺氮工艺不良而造成产品缺陷。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 发明人： | 吕伟伟;裴雷洪;严骏;石庆球 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811410181.X |
| 公开号： | CN109541140A |
| 代理机构： | 上海申新律师事务所 31272 |
| 代理人： | 俞涤炯 |
| 分类号： | G01N33/00(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N33 |
| 申请人地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |
| 主权项： | 1.一种监测缓冲腔体氧气浓度的装置，其特征在于，其中包括：一缓冲腔体，所述缓冲腔体内设有一机械手臂，所述机械手臂用于传送器件；一去耦合等离子氮化腔体，所述去耦合等离子氮化腔体与所述缓冲腔体连接，所述去耦合等离子氮化腔体用于对所述器件进行掺氮工艺；一传感器，所述传感器与所述缓冲腔体连接，用于监测所述缓冲腔体内的氧气浓度。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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