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原文传递 宽温域二维伸展流变仪、高分子薄膜性能检测装置及方法
专利名称: 宽温域二维伸展流变仪、高分子薄膜性能检测装置及方法
摘要: 本申请提供一种宽温域二维伸展流变仪、高分子薄膜性能检测装置及方法,所述宽温域二维伸展流变仪通过气体进行吹膜,实现对高分子薄膜的二维均匀拉伸,且能够控制变温速率降到所需低温,或者升到所需高温,模拟高低温苛刻环境下高分子薄膜结构演化,探索高分子材料在宽温域下的使用性能。并且,设置有入光窗口和出光窗口,能够与同步辐射X射线散射线站联用,实现原位研究高分子薄膜拉伸过程中结构演化行为与高低温苛刻条件下使用性能的关系。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 安徽;34
申请人: 中国科学技术大学
发明人: 李良彬;陈品章;陈威;孟令蒲
专利状态: 有效
申请日期: 2019-06-05T00:00:00+0800
发布日期: 2019-08-02T00:00:00+0800
申请号: CN201910484844.0
公开号: CN110082257A
代理机构: 北京集佳知识产权代理有限公司
代理人: 温可睿
分类号: G01N11/00(2006.01);G;G01;G01N;G01N11
申请人地址: 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号
主权项: 1.一种宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,应用于高分子薄膜性能检测,所述二维伸展流变仪包括: 气体腔主体、升降温底座、气体压力表、测温仪、出光法兰、气体质量流量控制器、外罩和冷源、热源; 所述气体腔主体的相对两侧分别开设有入光窗口和出光窗口; 所述出光法兰固定在所述气体腔主体上,并覆盖所述出光窗口,用于将所述高分子薄膜固定在所述出光窗口上,所述出光法兰的中心与所述出光窗口的中心对应设置; 所述气体腔主体嵌在所述升降温底座上,所述冷源和所述热源与所述升降温底座相连,为所述气体腔主体提供低温环境和高温环境; 所述气体压力表和所述测温仪设置在所述气体腔主体上,用于测试所述气体腔主体内的气体压力和气体温度; 所述外罩设置在出光法兰背离所述气体腔主体的一侧; 所述气体质量流量控制器用于控制进入所述气体腔主体内的气体流量和流速。 2.根据权利要求1所述的宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,所述外罩为透明外罩。 3.根据权利要求2所述的宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,所述外罩上还设置有形变度量标尺,用于测量所述高分子薄膜的形变量。 4.根据权利要求1-3任一项所述的宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,所述外罩为亚克力外罩。 5.根据权利要求1所述的宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,所述外罩上设置有进气口,用于通入气体,以维持所述高分子薄膜两侧温度趋于相同。 6.根据权利要求1所述的宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,所述冷源为自增压液氮罐,所述自增压液氮罐通过液氮电磁阀与所述升降温底座的冷却介质入口相通。 7.根据权利要求1所述的宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,所述热源为加热棒。 8.根据权利要求7所述的宽温域二维伸展流变仪,其特征在于,还包括热电偶,所述热电偶设置在所述加热棒一侧,用于反馈所述加热棒的温度。 9.一种高分子薄膜性能检测装置,其特征在于,包括: 权利要求1-8任意一项所述的宽温域二维伸展流变仪; X射线源,用于发射X射线,并通过所述宽温域二维伸展流变仪的气体腔主体上的入光窗口和出光窗口。 10.一种高分子薄膜性能检测方法,其特征在于,包括: 将待检测高分子薄膜固定在权利要求1所述的宽温域二维伸展流变仪的出光窗口处; 向所述宽温域二维伸展流变仪的气体腔主体内通入气体,使得所述高分子薄膜进行二维伸展; 打开冷源,关闭热源,进行所述高分子薄膜低温性能检测; 打开热源,关闭冷源,进行所述高分子薄膜高温性能检测。
所属类别: 发明专利
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