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一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法
| 专利名称： | 一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法，涉及地下城市综合管廊施工技术，所提供的一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法，包括以下步骤：(1)对管廊进行定位放线，确定管廊位置和标高；(2)沿管廊的洞身顶部的中心线位置，布设基座平台；(3)安装激光水平仪；(4)洞身开挖时标高测设。采用本发明通过在基座平台上布设激光水平仪射出的激光柱标高，在浅埋暗挖过程中减少测量的频率，并且更好的控制标高，大大减少测量人员的工作量，提高浅埋暗挖的工作效率，保证工期与质量的要求。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 安徽;34 |
| 申请人： | 中国十七冶集团有限公司 |
| 发明人： | 陈胜;鲁照香;田申;周鑫 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2019-04-28T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-08-09T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201910349117.3 |
| 公开号： | CN110106911A |
| 代理机构： | 北京华智则铭知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 王昌贵 |
| 分类号： | E02D29/00(2006.01);E;E02;E02D;E02D29 |
| 申请人地址： | 243061 安徽省马鞍山市雨山区雨山东路88号 |
| 主权项： | 1.一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法，其特征在于，包括以下步骤： (1)对管廊进行定位放线，确定管廊位置和标高 先根据建设方或相关部门提供的工程建设控制点，建立GPS定位仪的控制网，作为GPS定位的基准；再根据管廊平面布置图的坐标，定位出管廊基槽土方开挖中心线和管廊的标高；最后依靠中心线位置，进行洞门开挖和支护； (2)沿管廊的洞身顶部的中心线位置，布设基座平台 待管廊洞门开挖完成后，在洞身顶部的中心线位置处布设一个基座平台，且与洞门顶部的钢格栅焊接牢固； (3)安装激光水平仪 将激光水平仪固定在基座平台上，并进行找平； (4)洞身开挖时标高测设 准备工作完毕后，开始基槽开挖工作，使用水准仪测出激光水平仪在水平方向射出的激光柱标高；在进行洞身土方开挖时，利用钢卷尺控制开挖高度。 2.根据权利要求1所述的一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法，其特征在于：所述步骤(2)中进一步包括：所述基座平台由厚10～20mm的钢板制作而成。 3.根据权利要求1所述的一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法，其特征在于：所述步骤(4)中进一步包括：所述激光柱标高的位置位于管廊洞身顶部标高下300～500mm处。 4.根据权利要求1所述的一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法，其特征在于：所述步骤(4)中进一步包括：所述洞身开挖的高度位于所述激光柱上方的300～500mm。 5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种管廊浅埋暗挖标高控制的方法，其特征在于：所述步骤(4)中基槽开挖时，基槽深度利用水准仪配合塔尺、测绳进行控制，基坑坡度在开挖时应进行大致计算，避免超挖。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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