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原文传递一种激光诱导荧光聚焦纹影系统

专利名称：	一种激光诱导荧光聚焦纹影系统
摘要：	本发明实施例公开了一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，包括：激光诱导荧光模块，所述激光诱导荧光模块用于冻结高速流场并产生消除相干噪声的荧光；聚焦纹影模块，所述聚焦纹影模块用于拍摄并存储作为测试区的高速流场中特定焦平面的瞬时二维流场信息；所述荧光用作所述聚焦纹影模块的光源。本发明通过激光诱导特定物质产生消除相干噪声的荧光作为聚焦纹影模块的光源，通过聚焦纹影模块拍摄并存储流场中特定焦平面的瞬时二维信息，可以实现消除光源相干噪声的同时冻结高速高温高压流场结构，记录特定焦平面。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	中国科学院力学研究所
发明人：	连欢;周芮旭;张新宇
专利状态：	有效
申请日期：	2019-05-23T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-30T00:00:00+0800
申请号：	CN201910435874.2
公开号：	CN110186885A
代理机构：	北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	胡剑辉
分类号：	G01N21/64(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	100190 北京市海淀区北四环西路15号
主权项：	1.一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，包括：激光诱导荧光模块，所述激光诱导荧光模块用于冻结高速流场并产生消除相干噪声的荧光；聚焦纹影模块，所述聚焦纹影模块用于拍摄并存储作为测试区的高速流场中特定焦平面的瞬时二维流场信息；所述荧光用作所述聚焦纹影模块的光源。 2.根据权利要求1所述的一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，所述激光诱导荧光模块激光脉冲宽度小于10ns。 3.根据权利要求1所述的一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，所述聚焦纹影模块包括光源(1)、第一菲涅尔透镜(2)、源栅格(3)、纹影透镜(5)，截止栅格(6)和第二菲涅尔透镜(7)，在所述测试区(4)的一端依次设置为源栅格(3)、第一菲涅尔透镜(2)和光源(1)，在所述测试区(4)的另一端依次设置为纹影透镜(5)，截止栅格(6)、第二菲涅尔透镜(7)。 4.根据权利要求1所述的一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，所述焦平面的急剧聚焦深度为毫米量级，能够捕捉到流场特定平面的二维结构。 5.根据权利要求3所述的一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，在所述测试区(4)的两端设置有光学玻璃窗口，所述焦平面厚度远小于所述测试区(4)两侧光学玻璃窗口光学窗口玻璃的间距。 6.根据权利要求3所述的一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，所述聚焦纹影还包括设置在所述第二菲涅尔透镜(7)外侧且用于拍摄高速流场的相机(8)，所述相机(8)记录流场焦平面的二维结构。 7.根据权利要求6所述的一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，所述相机(8)曝光时间内的单个激光脉冲宽度小于10ns。 8.根据权利要求1所述的一种激光诱导荧光聚焦纹影系统，其特征在于，所述测试区(4)内的高速流场为高超声速燃烧流场。
所属类别：	发明专利