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气体阻隔性评价装置及气体阻隔性评价方法
| 专利名称： | 气体阻隔性评价装置及气体阻隔性评价方法 |
| 摘要： | 一种气体阻隔性评价装置以及使用气体阻隔性评价装置的方法，所述气体阻隔性评价装置具备具有高分子的支承体、透过侧腔室和检测部，所述支承体支承试样且与所述透过侧腔室的开口部结合，其中，在所述支承体和所述试样之间具有高分子膜，具有能够与所述试样贴合且能够升降地配置的供给侧腔室，以及覆盖被所述高分子膜和所述支承体夹着的区域的外侧腔室。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 国立研究开发法人产业技术综合研究所 |
| 发明人： | 原重树;吉田肇;高桥善和;细冈也寸志;今村贵浩 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2018-02-26T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-08-16T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201880005410.1 |
| 公开号： | CN110140041A |
| 代理机构： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
| 代理人： | 邓宗庆 |
| 分类号： | G01N15/08(2006.01);G;G01;G01N;G01N15 |
| 申请人地址： | 日本东京 |
| 主权项： | 1.一种气体阻隔性评价装置， 具备：具有高分子的支承体、透过侧腔室和检测部， 所述支承体支承试样并且与所述透过侧腔室的开口部结合，其中， 在所述支承体和所述试样之间具有高分子膜， 所述气体阻隔性评价装置具有： 能够与所述试样贴合且能够升降地配置的供给侧腔室；以及 覆盖被所述高分子膜和所述支承体夹着的区域的外侧腔室。 2.根据权利要求1所述的气体阻隔性评价装置，其中， 在所述外侧腔室连接有干燥气体源。 3.根据权利要求1或2所述的气体阻隔性评价装置，其中， 所述支承体为聚酰亚胺。 4.根据权利要求1至3中任一项所述的气体阻隔性评价装置，其中， 所述高分子膜将在中央具有开口部的高分子膜支承环的该开口部堵塞，并固定于该高分子膜支承环。 5.一种气体阻隔性评价方法，其是使用了气体阻隔性评价装置的方法，所述气体阻隔性评价装置具备：具有高分子的支承体、透过侧腔室和检测部， 所述支承体的表面侧支承试样并且所述支承体的背面侧与所述透过侧腔室的开口部结合，其中， 在所述支承体和所述试样之间配置高分子膜， 在所述试样的更换时，在所述支承体和所述高分子膜之间设置由干燥气体构成的保护区域。 6.根据权利要求5所述的气体阻隔性评价方法，其中， 具有将被所述高分子膜和所述支承体夹着的区域从大气隔离的外侧腔室， 在所述试样的更换时，向所述外侧腔室导入干燥气体而设置所述保护区域。 7.根据权利要求5或6所述的气体阻隔性评价方法，其中， 所述支承体为聚酰亚胺。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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