专利名称: |
一种多次撞击加载试验装置 |
摘要: |
本申请公开了一种多次撞击加载试验装置,基本原理是利用电磁原理一次加速多个弹丸,利用传感器记录弹丸撞击炸药的时间、参数变化历程曲线,控制器根据实测数据计算控制参数,通过放置在靶板底部的电磁铁依次将完成撞击任务的弹丸吸入底部,避免弹丸回弹造成的相互干扰,实现多次撞击加载。本申请具有通用性强、成本低廉、易损件更换便捷的优势,能够填补侵彻过程中炸药多次撞击点火无试验装置和方法的空白,能够为侵彻类抗过载炸药研制提供技术保障。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
陕西;61 |
申请人: |
西安近代化学研究所 |
发明人: |
李鸿宾;任松涛;高赞;杨建;徐洪涛;金朋刚 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-06-12T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-09-06T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910506010.5 |
公开号: |
CN110208180A |
代理机构: |
中国兵器工业集团公司专利中心 |
代理人: |
蒋忠亮 |
分类号: |
G01N19/00(2006.01);G;G01;G01N;G01N19 |
申请人地址: |
710065 陕西省西安市雁塔区丈八东路168号 |
主权项: |
1.一种多次撞击加载试验装置,其特征在于:所述装置包含导轨负极(1)、电枢A(2)、弹丸A(3)、电枢B(4)、弹丸B(5)、导轨正极(6)、激光测速仪(7)、电磁铁(8)、拦网(9)、应变片(10)、试样(11)、基座(12)、传感器A(13)、传感器B(14)、传感器C(15)、数据线(16)和控制器(17),所述导轨负极(1)和导轨正极(6)为导电金属,所述导轨负极(1)和导轨正极(6)长度为两者之间间距6倍~10倍,所述电枢A(2)、弹丸A(3)、电枢B(4)、弹丸B(5)、激光测速仪(7)、电磁铁(8)、应变片(10)、试样(11)在同一水平面上依次排列,所述电枢A(2)和电枢B(4)为凹形导电金属,所述电枢A(2)和电枢B(4)位于所述导轨负极(1)和导轨正极(6)之间,所述电枢A(2)和电枢B(4)前后排列,所述电枢A(2)和电枢B(4)与所述导轨负极(1)和导轨正极(6)自由接触,所述弹丸A(3)粘接在所述电枢A(2)和所述导轨负极(1)横截面平行的外表面上,所述弹丸B(5)粘接在所述电枢B(4)和所述导轨负极(1)横截面平行的外表面上,所述激光测速仪(7)由发射端和接收端组成,所述激光测速仪(7)的发射端和接收端分别固定在所述导轨负极(1)和导轨正极(6)末端,所述电磁铁(8)和拦网(9)固定在所述激光测速仪(7)正下方,所述拦网(9)为尼龙材质,所述拦网(9)位于所述电磁铁(8)上方,所述拦网(9)和电磁铁(8)之间的距离等于导轨负极(1)和导轨正极(6)之间间距,所述基座(12)固定在地面,基座(12)为钢筋混凝土结构,基座(12)垂直于弹丸B(5)运动方向的两个端面上各设有一个凹槽,所述基座(12)两个凹槽之间沿着横截面等间距分布三个通孔,所述传感器A(13)、传感器B(14)、传感器C(15)分别安装在上述三个通孔上,传感器A(13)、传感器B(14)、传感器C(15)的敏感面紧贴试样(11),所述基座(12)靠近弹丸B(5)一侧的凹槽整体呈圆柱体凸台结构,所述试样(11)填满所述基座(12)靠近弹丸B(5)一侧的凹槽,所述应变片(10)粘贴在所述试样(11)自由表面的中心位置处,所述应变片(10)位于所述弹丸A(3)、电枢B和弹丸B(5)的中轴线上,所述数据线(16)一端连接所述应变片(10)、传感器A(13)、传感器B(14)、传感器C(15),所述数据线(16)另外一端连接所述控制器(17)。 |
所属类别: |
发明专利 |