专利名称: |
流体用传感器 |
摘要: |
本发明提供一种流体用传感器,该流体用传感器具备:传感探头,其配置于流路内;流入口,其设置于传感探头的外表面,从该流入口取入流体;流出口,其设置于传感探头的外表面,从该流出口排出流体;测定用通路,其在传感探头内在流入口和流出口之间延伸;以及测定单元,其对在测定用通路内流动的流体的特性进行测定。传感探头按照沿着传感探头的外表面流动的流体的速度在流出口的位置处比流入口的位置处快的方式配置于流路内。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
日本碍子株式会社 |
发明人: |
菅野京一;奥村英正;水野和幸 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-02-22T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-09-03T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910131224.9 |
公开号: |
CN110196273A |
代理机构: |
北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
王轶;李伟 |
分类号: |
G01N27/60(2006.01);G;G01;G01N;G01N27 |
申请人地址: |
日本国爱知县 |
主权项: |
1.一种流体用传感器,其对在流路内流动的流体的特性进行测定,其中,所述流体用传感器具备: 传感探头,其配置于所述流路内; 流入口,其设置于所述传感探头的外表面,从该流入口取入所述流体; 流出口,其设置于所述传感探头的所述外表面,从该流出口排出所述流体; 测定用通路,其在所述传感探头内在所述流入口和所述流出口之间延伸;以及 测定单元,其对在所述测定用通路内流动的所述流体的所述特性进行测定, 所述传感探头按照沿着所述传感探头的所述外表面流动的所述流体的速度在所述流出口位置处比所述流入口的位置处快的方式配置于所述流路内。 2.根据权利要求1所述的流体用传感器,其中, 所述传感探头配置于所述流路内时,所述流出口朝向与所述流路内的流体流交叉的方向开口。 3.根据权利要求1或2所述的流体用传感器,其中, 所述传感探头配置于所述流路内时,所述流出口朝向与所述流路内的流体流正交的方向开口。 4.根据权利要求1~3中任意一项所述的流体用传感器,其中, 所述传感探头的所述外表面具有与所述流路内的流体流平行地配置的侧面或端面, 所述流出口设置于所述侧面和所述端面中的至少一个面。 5.根据权利要求1~4中任意一项所述的流体用传感器,其中, 所述传感探头配置于所述流路内时,所述流入口朝向所述流路内的流体流的下游方向开口。 6.根据权利要求5所述的流体用传感器,其中, 所述传感探头的所述外表面具有朝向所述流路内的流体流的下游方向配置的背面, 所述流入口设置于所述背面。 7.根据权利要求1~6中任意一项所述的流体用传感器,其中, 所述测定用通路具有配置有所述测定单元的测定区间、以及与所述测定区间连接并且延伸至所述流出口的流出区间, 所述传感探头配置于所述流路内时,所述测定区间与所述流路内的流体流平行地配置,所述流出区间沿着与所述流路内的流体流交叉的方向配置。 8.根据权利要求7所述的流体用传感器,其中, 所述传感探头配置于所述流路内时,所述流出区间沿着与所述流路内的流体流正交的方向配置,或者沿随着向所述流出口的趋近而向所述流路内的流体流的下游方向位移的方向配置。 9.根据权利要求1~8中任意一项所述的流体用传感器,其中, 所述传感探头具有设置有所述测定单元并且由陶瓷形成的主体、以及覆盖所述主体并且由金属形成的罩体, 所述流入口以及所述流出口形成于所述罩体,所述测定用通路穿过所述主体而延伸。 10.根据权利要求1~9中任意一项所述的流体用传感器,其中, 所述测定单元对所述流体中包含的微粒的量进行测定。 |
所属类别: |
发明专利 |