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原文传递一种掩模版透过率的测量装置

专利名称：	一种掩模版透过率的测量装置
摘要：	本实用新型提供了一种掩模版透过率的测量装置，测量原理简单有效。可在工作台上安装点阵或者面阵CCD，并借助曝光照明单元，使用CCD采集掩模版阵列周期性图像信息及无掩模版时的背景图像信息。利用特定的图像算法处理这些图像信息，得到掩模版透过率。本实用新型提出的装置利用光刻机本身的结构测量掩模版的透过率，可实时处理得到的图像信息，利用灰度值得到掩模版的透过率，极大的提升了测试效率且能保证测试精度。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	上海;31
申请人：	上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人：	赵晓伟;袁剑峰;李煜芝
专利状态：	有效
申请日期：	2018-12-20T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-23T00:00:00+0800
申请号：	CN201822147081.4
公开号：	CN209296576U
代理机构：	上海思捷知识产权代理有限公司
代理人：	王宏婧
分类号：	G01N21/59(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	201203 上海市浦东新区张东路1525号
主权项：	1.一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，包括掩模版、测量模块以及计算模块；所述测量模块包括照明单元、投影物镜以及探测单元；所述探测单元用于接收所述掩模版的周期性图像以及背景图像；所述周期性图像为所述照明单元的光依次透过所述掩模版上的图形区和所述投影物镜后形成的图像；所述背景图像为所述照明单元的光依次透过所述掩模版上的非图形区和所述投影物镜后形成的图像，或所述照明单元的光直接透过所述投影物镜后形成的图像；所述计算模块与所述探测单元通信连接，并用于根据所述背景图像和所述周期性图像得到所述掩模版的透过率。 2.如权利要求1所述的一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，所述测量模块还包括掩模台单元，所述掩模台单元用于承载固定所述掩模版。 3.如权利要求1所述的一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，所述探测单元包括图像传感器以及承载所述图像传感器的工作台，所述图像传感器用于接收所述掩模版的周期性图像以及背景图像。 4.如权利要求3所述的一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，所述图像传感器为CCD传感器。 5.如权利要求4所述的一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，所述CCD传感器为点阵CCD传感器，或面阵CCD传感器。 6.如权利要求1所述的一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，所述计算模块还包括一存储单元，所述存储单元存储一校正系数；所述计算模块根据所述背景图像、所述周期性图像以及所述校正系数得到所述掩模版的透过率。 7.如权利要求6所述的一种掩模版透过率的测量装置，其特征在于，所述校正系数根据所述照明单元的光透过所述非图形区的损耗得到。
所属类别：	实用新型