专利名称: |
摄像方法以及摄像装置 |
摘要: |
在利用来自被摄像物的反射光和参照光的干涉来对容器内的被摄像物进行摄像的技术中,确定透过容器的壁部进行摄像的断层图像的焦点位置。当将参照镜定位于到物体光学系对焦于容器的第一主面时的第一主面为止的物体光路长度与参照光路长度相等的位置时,将来自容器的第二主面的反射光的强度成为最大的物体光学系的焦点位置调整量作为第二调整量,将由干涉信号求出的反射光强度分布中的物体光学系的光轴方向的第一主面与第二主面的距离作为第一距离。在由将物体光学系的焦点位置调整量设定于第三调整量而取得的干涉信号求出的反射光强度分布中,将与光轴方向的第一主面的距离为由第三调整量与第二调整量之差乘以介质的折射率的平方所得的值和第一距离之和表示的第二距离的位置,作为物体光学系的焦点位置。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
株式会社斯库林集团 |
发明人: |
加藤佳祐;石川直树 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2017-12-27T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-08-27T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201780083485.7 |
公开号: |
CN110178015A |
代理机构: |
北京银龙知识产权代理有限公司 |
代理人: |
金成哲;郑毅 |
分类号: |
G01N21/17(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
日本京都府 |
主权项: |
1.一种摄像方法,其是对具有透光性的壁部的容器所载置的介质中的被摄像物进行断层摄像的摄像方法,其特征在于,具备: 使信号光与参照光发生干涉并取得与干涉光的检测结果对应的干涉信号的工序,其中,该信号光是使从光源出射的低相干光所分支的一个分支光向所述被摄像物入射并使其反射光透过所述壁部而通过物体光学系进行聚光所得到的,该参照光是使另一个分支光在参照镜进行反射所得到的; 基于所述干涉信号而求出所述被摄像物的反射光强度分布并由该反射光强度分布生成断层图像的工序;以及 确定所述断层图像内的所述物体光学系的焦点位置的工序, 当将所述信号光的光路长度称为物体光路长度,并将所述参照光的光路长度称为参照光路长度时, 将所述物体光学系对焦于所述壁部的主面中的所述物体光学系侧的第一主面时的所述物体光学系的焦点位置调整量作为第一调整量, 当将所述参照镜定位于到所述物体光学系的焦点位置调整量为所述第一调整量时的所述第一主面为止的所述物体光路长度与所述参照光路长度相等的位置时,将来自所述壁部的主面中的所述被摄像物侧的第二主面的反射光的强度成为最大的所述物体光学系的焦点位置调整量作为第二调整量, 将由所述干涉信号求出的所述反射光强度分布中的所述物体光学系的光轴方向的所述第一主面与所述第二主面的距离作为第一距离, 在由将所述物体光学系的焦点位置调整量设定于在与所述第一调整量之间夹有所述第二调整量的第三调整量而取得的所述干涉信号求出的所述反射光强度分布中,将与所述光轴方向的所述第一主面的距离为由所述第三调整量与所述第二调整量之差乘以所述介质的折射率的平方所得的值和所述第一距离之和表示的第二距离的位置,作为与该反射光强度分布对应的所述断层图像内的所述物体光学系的所述焦点位置。 2.根据权利要求1所述的摄像方法,其特征在于, 对所述物体光学系的光轴方向的焦点位置调整量进行变更并检测所述信号光,搜索所述信号光的强度成为最大的第一反射面,并将所述第一反射面视为所述第一主面。 3.根据权利要求1或2所述的摄像方法,其特征在于, 将所述参照镜定位于到所述物体光学系的焦点位置调整量为所述第一调整量时的所述第一主面为止的所述物体光路长度与所述参照光路长度相等的位置,对所述物体光学系的焦点位置调整量进行变更并检测所述干涉光,搜索相比于所述第一反射面在所述被摄像物侧所述反射光的强度成为极大的第二反射面,将所述第二反射面视为所述第二主面。 4.根据权利要求3所述的摄像方法,其特征在于, 当未检出来自所述第二反射面的所述反射光时,使所述参照镜的位置向所述参照光路长度变长的方向变更来进行搜索。 5.根据权利要求1至4中任一项所述的摄像方法,其特征在于, 使附加有表示所述焦点位置的信息的所述断层图像显示于显示装置。 6.根据权利要求1至5中任一项所述的摄像方法,其特征在于, 根据从用户受理的设定输入来设定所述第三调整量,并根据所述第三调整量的设定值来变更所述参照镜的位置。 7.一种摄像装置,其对具有透光性的壁部的容器所载置的介质中的被摄像物进行断层摄像,所述摄像装置的特征在于,具备: 检测单元,其对信号光与参照光干涉而产生的干涉光进行检测,并输出与检出的所述干涉光对应的干涉信号,其中,该信号光是使从光源出射的低相干光所分支的一个分支光向所述被摄像物入射并使其反射光透过所述壁部而通过物体光学系进行聚光所得到的,该参照光是使另一个分支光在参照镜进行反射所得到的; 信号处理单元,其基于所述干涉信号而求出所述被摄像物的反射光强度分布,并由该反射光强度分布生成断层图像; 焦点位置调整单元,其对所述物体光学系的光轴方向上的所述物体光学系的焦点位置进行变更; 镜位置调整单元,其对沿着所述参照方向的光路的方向上的所述参照镜的位置进行变更;以及 焦点位置计算单元,其计算所述断层图像内的所述物体光学系的焦点位置, 当将所述信号光的光路长度称为物体光路长度,并将所述参照光的光路长度称为参照光路长度时, 将所述物体光学系对焦于所述壁部的主面中的所述物体光学系侧的第一主面时的所述焦点位置调整单元的焦点位置调整量作为第一调整量, 当将所述参照镜定位于到所述物体光学系的焦点位置调整量为所述第一调整量时的所述第一主面为止的所述物体光路长度与所述参照光路长度相等的位置时,所述镜位置变更单元将来自所述壁部的主面中的所述被摄像物侧的第二主面的反射光的强度成为最大的所述焦点位置调整单元的焦点位置调整量作为第二调整量, 所述信号处理单元将由所述干涉信号求出的所述反射光强度分布中的所述物体光学系的光轴方向的所述第一主面与所述第二主面的距离作为第一距离, 在由所述焦点位置调整单元将焦点位置调整量设定于在与所述第一调整量之间夹有所述第二调整量的第三调整量而取得的所述干涉信号求出的所述反射光强度分布中,所述焦点位置计算单元将与所述光轴方向的所述第一主面的距离为由所述第三调整量与所述第二调整量之差乘以所述介质的折射率的平方所得的值和所述第一距离之和表示的第二距离的位置,作为与该反射光强度分布对应的所述断层图像内的所述物体光学系的焦点位置。 8.根据权利要求7所述的摄像装置,其特征在于, 在所述参照光的光路上设有能够开闭的闸门部件。 9.根据权利要求7或8所述的摄像装置,其特征在于, 具备显示单元,该显示单元显示附加有表示所述焦点位置的信息的所述断层图像。 10.根据权利要求7至9中任一项所述的摄像装置,其特征在于, 具备受理单元,该受理单元受理与所述第三调整量有关的设定输入, 根据该设定输入,所述焦点位置调整单元对所述物体光学系的焦点位置调整量进行设定。 11.根据权利要求10所述的摄像装置,其特征在于, 所述受理单元受理用于对所述参照镜的位置进行变更的设定输入,所述镜位置调整单元根据该设定输入来设定所述参照镜的位置。 |
所属类别: |
发明专利 |