专利名称: |
葡萄糖传感器的出厂校准方法 |
摘要: |
本公开提供了一种葡萄糖传感器的出厂校准方法,其包括:获取具有一致性工艺参数的多个葡萄糖传感器;从多个葡萄糖传感器选取至少一个葡萄糖传感器作为传感器样品,对传感器样品进行分析测试,获取传感器样品的电流随葡萄糖浓度的变化曲线以及灵敏度的衰减曲线;基于变化曲线和衰减曲线生成传感器样品的补偿模型;并且将补偿模型嵌入到多个葡萄糖传感器以实现对多个葡萄糖传感器的自动校准。在本公开所涉及的葡萄糖传感器的出厂校准方法中,能够基于变化曲线和衰减曲线生成补偿模型,葡萄糖传感器能够通过嵌入的补偿模型对自身进行不断的矫正,由此,能够实现传感器的自动校准。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
深圳硅基传感科技有限公司 |
发明人: |
方骏飞;陈立果;韩明松;夏斌;赵瑜 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-06-24T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-09-06T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910551646.1 |
公开号: |
CN110208352A |
代理机构: |
深圳舍穆专利代理事务所(特殊普通合伙) |
代理人: |
黄贤炬 |
分类号: |
G01N27/416(2006.01);G;G01;G01N;G01N27 |
申请人地址: |
518000 广东省深圳市新安街道留芳路6号庭威产业园3#3楼D区 |
主权项: |
1.一种葡萄糖传感器的出厂校准方法,其特征在于, 包括: 获取具有一致性工艺参数的多个葡萄糖传感器; 从所述多个葡萄糖传感器选取至少一个葡萄糖传感器作为传感器样品,对所述传感器样品进行分析测试,获取所述传感器样品的电流随葡萄糖浓度变化的变化曲线以及灵敏度的衰减曲线; 基于所述变化曲线和所述衰减曲线生成所述传感器样品的补偿模型;并且 将所述补偿模型嵌入到所述多个葡萄糖传感器以实现对所述多个葡萄糖传感器的自动校准。 2.如权利要求1所述的出厂校准方法,其特征在于, 所述葡萄糖传感器包括依次层叠的基底、能够与葡萄糖发生反应的葡萄糖酶层和控制葡萄糖的数量的半透膜, 所述一致性工艺参数包括所述葡萄糖酶层的质量、所述葡萄糖酶层的体积、所述葡萄糖酶层的厚度、所述葡萄糖酶层的活性、所述半透膜的膜厚、所述半透膜的扩散系数中的至少一种。 3.如权利要求1所述的出厂校准方法,其特征在于, 所述衰减曲线与所述传感器样品中的所述葡萄糖酶层的质量、所述葡萄糖酶层的体积、所述葡萄糖酶层的厚度、所述葡萄糖酶层的活性、所述半透膜的膜厚、所述半透膜的扩散系数中的至少一种相关。 4.如权利要求3所述的出厂校准方法,其特征在于, 通过控制所述葡萄糖酶层的质量、所述葡萄糖酶层的体积、所述葡萄糖酶层的厚度、所述葡萄糖酶层的活性、所述半透膜的膜厚、所述半透膜的扩散系数中的至少一种来改善所述衰减曲线。 5.如权利要求1所述的出厂校准方法,其特征在于, 通过降低所述多个葡萄糖传感器的工作电压来降低所述葡萄糖传感器的本底电流以提高所述一致性工艺参数。 6.如权利要求1所述的出厂校准方法,其特征在于, 所述衰减曲线反映所述传感器样品中的灵敏度随时间的变化。 7.如权利要求1或6所述的出厂校准方法,其特征在于, 根据所述衰减曲线获得所述传感器样品的初始灵敏度和衰减系数,以计算补偿量。 8.如权利要求1所述的出厂校准方法,其特征在于, 还包括通过旋涂、浸渍提拉、滴涂和喷涂工艺中的至少一种工艺来实现所述一致性工艺参数。 9.如权利要求1所述的出厂校准方法,其特征在于, 在所述自动校准中,通过所述补偿模型算出的补偿量来校准葡萄糖浓度。 10.如权利要求1所述的出厂校准方法,其特征在于, 在所述分析测试中,将所述传感器样品置于具有规定的葡萄糖浓度的葡萄糖溶液中,并且随时间采集所述传感器样品所测得的葡萄糖浓度,从而获取所述传感器样品的所述变化曲线和所述衰减曲线。 |
所属类别: |
发明专利 |