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原文传递一种缓冲衬垫和缓冲装置

专利名称：	一种缓冲衬垫和缓冲装置
摘要：	本实用新型公开了一种缓冲衬垫和缓冲装置。一种缓冲衬垫，包括：主体，用于隔开显示面板；定位吸附结构，设置在所述主体的表面上，用于供机台的吸嘴吸附；所述定位吸附结构对应吸嘴的上表面为光滑平面。一般的缓冲衬垫表面都为不平整不光滑的表面，在吸附过程中就有可能导致吸附失败，现在在缓冲衬垫的表面设置定位吸附结构，吸嘴吸附在定位吸附结构的光滑平面上，使得吸附更加稳定。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	重庆;50
申请人：	重庆惠科金渝光电科技有限公司
发明人：	包文强;吴琼
专利状态：	有效
申请日期：	2018-09-30T00:00:00+0800
发布日期：	2019-09-13T00:00:00+0800
申请号：	CN201821629516.2
公开号：	CN209382625U
代理机构：	深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙)
代理人：	邢涛
分类号：	B65D81/05(2006.01);B;B65;B65D;B65D81
申请人地址：	401320 重庆市巴南区界石镇石景路1号
主权项：	1.一种缓冲衬垫，其特征在于，包括：主体，用于隔开显示面板；定位吸附结构，设置在所述主体的表面上，用于供机台的吸嘴吸附；所述定位吸附结构对应吸嘴的上表面为光滑平面。 2.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构的上表面面积大于所述吸嘴的真空吸附面积。 3.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构至少有两个。 4.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构呈对称分布。 5.如权利要求4所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述主体包括第一凹槽，用于设置所述定位吸附结构。 6.如权利要求5所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述定位吸附结构的厚度小于第一凹槽的深度。 7.如权利要求1所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述主体包括第二凹槽，所述第二凹槽为通槽，将所述主体打穿。 8.如权利要求7所述的一种缓冲衬垫，其特征在于，所述第二凹槽对称分布。 9.一种缓冲衬垫，其特征在于，包括：主体，用于隔开显示面板；定位吸附结构，设置在所述主体的表面上，用于供机台的吸嘴吸附；所述定位吸附结构对应吸嘴的上表面为光滑平面；所述定位吸附结构的上表面面积大于所述吸嘴的真空吸附面积；所述定位吸附结构至少有两个；所述定位吸附结构呈对称分布；所述主体包括第一凹槽，用于设置所述定位吸附结构；所述定位吸附结构的厚度小于第一凹槽的深度。 10.一种缓冲装置，其特征在于，所述缓冲装置包括如权利要求1至9任意一项所述的缓冲衬垫。
所属类别：	实用新型