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气体传感器装置及气体成分去除方法
| 专利名称： | 气体传感器装置及气体成分去除方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种能够通过相对简单的手法去除附着于气体传感器的成分、易于将气体传感器信号的基线复位到恒定状态的气体传感器装置和气体成分去除方法。本发明的一个实施方式的气体传感器装置具备气体传感器和洗涤机构，该洗涤机构包含用于洗涤气体传感器的液体，气体传感器包括：传感器主体，能够检测存在于气相中或液相中的成分的特性参数；以及感应膜，包覆于传感器主体的表面且对液体具有耐性。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 日本;JP |
| 申请人： | 国立研究开发法人物质材料研究机构 |
| 发明人： | 吉川元起;柴弘太;今村岳;安田隆则;小林京平;坂井久 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2017-10-24T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-09-13T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201780066524.2 |
| 公开号： | CN110234977A |
| 代理机构： | 隆天知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 陈曦;向勇 |
| 分类号： | G01N19/00(2006.01);G;G01;G01N;G01N19 |
| 申请人地址： | 日本茨城县 |
| 主权项： | 1.一种气体传感器装置，其特征在于， 具备气体传感器和洗涤机构，该洗涤机构包含用于洗涤所述气体传感器的液体， 所述气体传感器包括： 传感器主体，能够检测存在于气相中或液相中的成分的特性参数；以及 感应膜，包覆于所述传感器主体的表面且对所述液体具有耐性。 2.如权利要求1所述的气体传感器装置，其特征在于， 所述感应膜由粒径为1nm～1mm的微粒形成。 3.一种气体成分去除方法，其特征在于， 通过液体去除附着于气体传感器的气体成分， 所述气体传感器包括： 传感器主体，能够检测存在于气相中或液相中的成分的特性参数；以及 感应膜，包覆于所述传感器主体的表面且对所述液体具有耐性， 所述气体成分去除方法包含以下工序： (1)洗涤工序，使所述气体传感器和所述液体接触；以及 (2)干燥工序，在所述洗涤工序之后，使所述气体传感器在气相中干燥。 4.如权利要求3所述的气体成分去除方法，其特征在于， 在所述(2)干燥工序中，由通过所述传感器主体检测的气相中的成分引起的特性参数的信号收敛于恒定值。 5.如权利要求4所述的气体成分去除方法，其特征在于， 在所述(1)洗涤工序中，包含以下工序： 基于由通过所述传感器主体检测的液相中的成分引起的特性参数的信号，算出液相状态下的基准值， 基于在液相状态下的所述基准值，调整所述传感器主体。 6.如权利要求5所述的气体成分去除方法，其中， 调整所述传感器主体的工序包含：将所述洗涤工序的所述基准值和所述干燥工序的收敛值相比较，提高传感器信号的再现性的工序。 7.如权利要求6所述的气体成分去除方法，其中， 提高传感器信号的再现性的工序包含：基于所述比较的结果，对从由所述传感器主体的检测灵敏度、偏移和响应波形组成的组中选出的至少一种进行调整的工序。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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