详情

原文传递自动分析装置和自动分析装置中的清洗机构

专利名称：	自动分析装置和自动分析装置中的清洗机构
摘要：	由于在清洗重复使用的反应容器内时，与为接下来分析而吸取所有清洗液的清洗头接触而损伤反应容器的内壁，可能对分析结果造成影响。本发明提供一种装置及该装置的反应容器清洗装置，该装置包括：保持反应容器的反应盘；将试料分注到所述反应容器的试料分注机构；将试剂分注到所述反应容器的试剂分注机构；光学系统，该光学系统具备将光照射到分注至该反应容器的试料与试剂的混合液的光源以及检测从该光源照射的光的检测器；以及清洗该反应容器的清洗机构，所述清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的该反应容器的清洗液供给喷嘴；吸引被提供的该清洗液的清洗液吸引喷嘴；以及设置于所述清洗液吸引喷嘴的下端的清洗头，所述清洗头的侧面形成为在将所述清洗头插入到所述反应容器的状态下，至少在与所述光源相对的面及与所述检测器相对的面上、与测光范围重叠的范围、或比该测光范围更大的范围中，越朝下方宽度越小，该测光范围是从所述光源照射到所述反应容器的光朝向所述检测器通过所述反应容器的范围。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	日本;JP
申请人：	株式会社日立高新技术
发明人：	盐谷圭;饭岛昌彦
专利状态：	有效
申请日期：	2018-02-15T00:00:00+0800
发布日期：	2019-09-27T00:00:00+0800
申请号：	CN201880011677.1
公开号：	CN110291405A
代理机构：	上海专利商标事务所有限公司
代理人：	万捷;张鑫
分类号：	G01N35/02(2006.01);G;G01;G01N;G01N35
申请人地址：	日本东京
主权项：	1.一种自动分析装置，包括：保持反应容器的反应盘；将试料分注到所述反应容器的试料分注机构；将试剂分注到所述反应容器的试剂分注机构；光学系统，该光学系统具备：将光照射到分注至该反应容器的试料与试剂的混合液的光源以及检测从该光源照射的光的检测器；以及清洗该反应容器的清洗机构，该自动分析装置基于由该检测器检测到的光分析所述试料，其特征在于，所述清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的该反应容器的清洗液供给喷嘴；吸引被提供的该清洗液的清洗液吸引喷嘴；以及设置于所述清洗液吸引喷嘴的下端的清洗头，所述清洗头的侧面形成为在将所述清洗头插入到所述反应容器的状态下，至少在与所述光源相对的面及与所述检测器相对的面上、与测光范围重叠的范围、或比该测光范围更大的范围中，越朝下方宽度越小，该测光范围是从所述光源照射到所述反应容器的光朝向所述检测器通过所述反应容器的范围。 2.如权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，该清洗头的侧面具有形成为越朝下方宽度越小的锥形体。 3.如权利要求2所述的自动分析装置，其特征在于，该锥形体形成为倾斜角度为1～5度。 4.如权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，所述侧面由4个面构成。 5.如权利要求4所述的自动分析装置，其特征在于，所述侧面形成为该4个面中的与所述光源相对的面及与所述检测器相对的面即2个面上、仅与测光范围重叠的范围、或比该测光范围更大的范围中，越朝下方宽度越小，该测光范围是从所述光源照射到所述反应容器的光朝向所述检测器通过所述反应容器的范围。 6.如权利要求4所述的自动分析装置，其特征在于，所述侧面至少具有1个对由该4个面中相邻的2个面形成的角部进行倒角的倒角部。 7.如权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，包括对所述清洗机构进行控制的控制部，所述清洗机构包括：将清洗液提供给分析后的该反应容器的清洗液供给喷嘴；以及吸引被提供的该清洗液的第一清洗液吸引喷嘴及第二清洗液吸引喷嘴；在所述第一清洗液吸引喷嘴的下端设置有清洗头，所述清洗头具有形成为越朝下方宽度越小的锥形体，所述控制部控制所述清洗机构使得利用所述清洗液供给喷嘴将清洗液提供给分析后的所述反应容器，利用所述第二清洗液吸引喷嘴将被提供的该清洗液吸引规定量，在该吸引后，利用设置于所述第一清洗液喷嘴的清洗头吸引残留在所述反应容器的清洗液。 8.如权利要求1所述的自动分析装置，其特征在于，在所述反应容器的内壁与所述清洗头之间的间隔的体积为所述清洗头的内孔的体积以下。
所属类别：	发明专利