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原文传递 气体分析装置
专利名称: 气体分析装置
摘要: 本发明提供一种气体分析装置,该气体分析装置(1)包括:向包含待测气体(G)的测定区域(R1)照射测定光的发光部(21);接收通过测定区域(R1)后的测定光的第一光接收部(22);配置在发光部(21)与测定区域(R1)之间且将发光部(21)所照射的测定光的一部分分光为参照光的分光部(24);包含有与待测气体(G)中的测定对象成分相同且浓度已知的气体并具有接收通过包含有气体的区域后的参照光的第二光接收部(26)的参照部(25);以及配置在分光部(24)与包含有气体的区域之间的光学器件(28),光学器件(28)使第二光接收部(26)上参照光的光束直径大于第二光接收部(26)的光接收直径。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 日本;JP
申请人: 横河电机株式会社
发明人: 小林由贵;松尾纯一;藤村直之
专利状态: 有效
申请日期: 2019-04-03T00:00:00+0800
发布日期: 2019-10-29T00:00:00+0800
申请号: CN201910266635.9
公开号: CN110389102A
代理机构: 上海专利商标事务所有限公司
代理人: 陈亦欧;张鑫
分类号: G01N21/31(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址: 日本东京
主权项: 1.一种气体分析装置,包括: 向包含待测气体的测定区域照射测定光的发光部; 接收通过所述测定区域后的所述测定光的第一光接收部; 配置在所述发光部与所述测定区域之间且将所述发光部所照射的所述测定光的一部分分光为参照光的分光部; 包含有与所述待测气体中的测定对象成分相同且浓度已知的气体,并具有接收通过包含所述气体的区域后的所述参照光的第二光接收部的参照部;以及 配置在所述分光部与包含有所述气体的区域之间的光学器件, 所述光学器件使所述第二光接收部上所述参照光的光束直径大于所述第二光接收部的光接收直径。 2.如权利要求1所述的气体分析装置,其特征在于, 所述光学器件包含使所述参照光聚焦的光学透镜。 3.如权利要求2所述的气体分析装置,其特征在于, 所述光学透镜使所述参照部中所述参照光的焦点靠近所述光学透镜侧。 4.如权利要求3所述的气体分析装置,其特征在于, 所述光学透镜为平凸透镜, 所述平凸透镜的平面与所述参照部相向。 5.如权利要求1至4的任一项所述的气体分析装置,进一步包括, 配置在所述分光部与所述光学器件之间且将所述分光部分光出的所述参照光反射到所述发光部侧的第一反射部。 6.如权利要求1至5的任一项所述的气体分析装置,进一步包括: 沿着所述测定光的光轴以与所述测定区域重叠的方式延伸的探针部;以及 位于所述探针部的与所述发光部相反侧的远端且使所述测定光反射的第二反射部, 其中,所述第一光接收部接收经所述第二反射部反射后的所述测定光。
所属类别: 发明专利
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