专利名称: |
一种压力平衡装置及应用其的吸盘 |
摘要: |
本实用新型涉及吸盘技术领域,具体涉及一种压力平衡装置及应用其的吸盘,该压力平衡装置包括基座、设置于基座的顶部的盖体以及与基座活动连接并具有弹性的第一密封件,所述盖体、基座与第一密封件之间形成密闭的容腔,所述第一密封件突伸出基座的底部,所述容腔容设有能够被挤压发生形变的形变介质,当形变介质的局部被第一密封件挤压时,形变介质发生形变以使形变介质没有被挤压的部位挤压第一密封件的对应部位向外突伸;所述压力平衡装置还包括连接于基座的底部的防脱件,所述防脱件用于防止所述第一密封件脱离所述基座。该压力平衡装置结构简单,组装简便,大大节省原料成本和加工成本。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
东莞友颉实业有限公司 |
发明人: |
刘仁友 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-12-29T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-25T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201822277639.0 |
公开号: |
CN209536429U |
代理机构: |
东莞市华南专利商标事务所有限公司 |
代理人: |
赵超群 |
分类号: |
B65G47/91(2006.01);B;B65;B65G;B65G47 |
申请人地址: |
523000 广东省东莞市常平镇苏坑村上甲队上新路367号C栋C4 |
主权项: |
1.一种压力平衡装置,其特征在于:包括基座、设置于基座的顶部的盖体以及与基座活动连接并具有弹性的第一密封件,所述盖体、基座与第一密封件之间形成密闭的容腔,所述第一密封件突伸出基座的底部,所述容腔容设有能够被挤压发生形变的形变介质,当形变介质的局部被第一密封件挤压时,形变介质发生形变以使形变介质没有被挤压的部位挤压第一密封件的对应部位向外突伸;所述压力平衡装置还包括连接于基座的底部的防脱件,所述防脱件用于防止所述第一密封件脱离所述基座。 2.根据权利要求1所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述第一密封件包括容设于基座的密封垫以及与密封垫抵靠的传力件,所述密封垫的侧壁与基座的侧壁抵靠,所述传力件突伸出基座的底部。 3.根据权利要求2所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述基座包括均与盖体的底部连接的外壳和内壳,所述形变介质容设于所述外壳和内壳之间。 4.根据权利要求3所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述防脱件由设置于所述外壳的内侧壁的第一限位件以及设置于所述内壳的外侧壁的第二限位件组成,所述第一限位件和第二限位件均与密封垫的底部抵靠。 5.根据权利要求3所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述传力件开设有第一凹槽,所述防脱件经由第一凹槽与所述密封垫抵靠。 6.根据权利要求5所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述防脱件包括抵触于外壳的底部的第一固定件以及抵触于内壳的底部的第二固定件,所述第一固定件通过连接件与所述第二固定件连接,所述第一固定件和第二固定件均与密封垫的底部抵靠,所述连接件经由第一凹槽与所述密封垫抵靠。 7.根据权利要求6所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述第一固定件靠近外壳的一面开设有第二凹槽,所述外壳的底部插装于第二凹槽内;所述第二固定件靠近内壳的一面开设有第三凹槽,所述内壳的底部插装于第三凹槽内。 8.根据权利要求1所述的一种压力平衡装置,其特征在于:所述基座与盖体为一体式结构,所述盖体开设有用于注入形变介质至所述容腔内的注射孔,所述注射孔的顶部设置有用于密封注射孔的第二密封件。 9.一种应用权利要求1-8任意一项所述的压力平衡装置的吸盘,其特征在于:所述吸盘包括压力平衡装置、贯穿压力平衡装置的连接杆以及与连接杆连接的吸盘本体,所述第一密封件的底部与吸盘本体抵靠。 10.根据权利要求9所述的吸盘,其特征在于:所述吸盘还包括连接于压力平衡装置的顶部的吸盘座以及设置于吸盘座的连动按键,所述连动按键通过销轴与连接杆连接。 |
所属类别: |
实用新型 |