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原文传递一种多格滴样观测窗口

专利名称：	一种多格滴样观测窗口
摘要：	本实用新型涉及微纳观测表征技术领域，提供了一种多格滴样观测窗口，其包括：衬底，衬底包括第一表面和第二表面，第一表面设置有第一薄膜且第二表面设置有第二薄膜，第一表面或第二表面上阵列形成多个方形凹槽；在每个凹槽的中间位置设置多个观测凹槽，观测凹槽贯穿衬底与第一薄膜，或贯穿衬底与第二薄膜。上述多格滴样观测窗口通过在衬底上形成多个观测窗口可以实现同时观测多个样品，并且每个正四棱台孔观测窗口间有阻挡衬底层及薄膜的存在而避免样品的交叉感染，极大地节省了观测时间。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	江苏;32
申请人：	苏州原位芯片科技有限责任公司
发明人：	胡慧珊;王新亮;温赛赛;马硕
专利状态：	有效
申请日期：	2018-12-20T00:00:00+0800
发布日期：	2019-11-19T00:00:00+0800
申请号：	CN201822146640.X
公开号：	CN209656539U
代理机构：	北京中知法苑知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	李明
分类号：	G01N21/01(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	215123 江苏省苏州市工业园区若水路388号B506
主权项：	1.一种多格滴样观测窗口，其特征在于，包括：衬底，所述衬底包括第一表面和第二表面，所述第一表面设置有第一薄膜且所述第二表面设置有第二薄膜，所述第一表面或所述第二表面上阵列形成多个方形凹槽；在每个所述方形凹槽的中间位置设置多个观测凹槽，所述观测凹槽贯穿所述衬底与所述第一薄膜，或贯穿所述衬底与所述第二薄膜。 2.根据权利要求1所述的多格滴样观测窗口，其特征在于，所述观测凹槽的形状为正四棱台孔，所述正四棱台孔的底面开口位于所述衬底的第一表面且所述正四棱台孔的顶面开口位于所述衬底的第二表面，或者所述正四棱台孔的底面开口位于所述衬底的第二表面且所述正四棱台孔的顶面开口位于所述衬底的第一表面。 3.根据权利要求2所述的多格滴样观测窗口，其特征在于，所述观测凹槽的长度为0.001mm-100mm。 4.根据权利要求1所述的多格滴样观测窗口，其特征在于，所述方形凹槽的深度为0.01mm-1.0mm，所述方形凹槽的个数为2-50个。 5.根据权利要求1所述的多格滴样观测窗口，其特征在于，所述方形凹槽的长度为0.001mm-100mm。 6.根据权利要求1所述的多格滴样观测窗口，其特征在于，所述第一薄膜和/或所述第二薄膜的厚度为1-1000nm。 7.根据权利要求1所述的多格滴样观测窗口，其特征在于，所述第一薄膜和/或所述第二薄膜的材质包括硅、氮化硅、氧化硅、氮化硅和金属的任意一种。 8.根据权利要求1所述的多格滴样观测窗口，其特征在于，所述衬底的厚度为0.05mm-1.0mm，所述衬底的材质为N型或P型单晶硅。
所属类别：	实用新型