专利名称: |
一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构及其处理方法 |
摘要: |
本发明公开了一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构,包括地下室顶板和支撑主体,所述地下室顶板顶面设置柱基础,且支撑主体设置在柱基础的上表面,所述柱基础与地下室顶板顶面接触面之间设置厚聚四氟乙烯板;本发明还公开了一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构的处理方法,包括以下步骤:S1、在地下室顶板在需要设缝的位置顶面设置厚聚四氟乙烯板;S2、在厚聚四氟乙烯板顶面设置柱基础;S3、在柱基础上设置支撑主体;本发明主要解决设缝后塔楼局部小构件基础支撑在地下室顶板上的竖向连接和受力问题,相互运动不影响,同时兼顾了施工便利;本发明不仅不用让抗震缝上下对齐影响建筑功能布局;而且使结构方案更加经济合理,同时施工更加简单快速。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
重庆;50 |
申请人: |
重庆基准方中建筑设计有限公司 |
发明人: |
周炜 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-07-09T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-12T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910617298.3 |
公开号: |
CN110439034A |
代理机构: |
重庆嘉禾共聚知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
吴迪 |
分类号: |
E02D29/16(2006.01);E;E02;E02D;E02D29 |
申请人地址: |
400000重庆市渝北区东湖南路333号2幢10-1 |
主权项: |
1.一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构,包括地下室顶板(4)和支撑主体(1),其特征在于,所述地下室顶板(4)顶面设置柱基础(2),且支撑主体(1)设置在柱基础(2)的上表面,所述柱基础(2)与地下室顶板(4)顶面接触面之间设置厚聚四氟乙烯板(3)。 2.根据权利要求1所述的一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构,其特征在于,所述柱基础(2)的侧壁上对称滑动连接有多个加强座(5)。 3.根据权利要求2所述的一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构,其特征在于,所述柱基础(2)的侧壁上对称开设有多个T型滑槽(8),每个所述加强座(5)上均固定安装有T型滑杆(9),且T型滑杆(9)滑动连接于T型滑槽(8)内。 4.根据权利要求1所述的一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构,其特征在于,所述柱基础(2)的上表面开设有圆形安装槽(6),且支撑主体(1)的下端插设在圆形安装槽(6)内。 5.根据权利要求1所述的一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构,其特征在于,所述圆形安装槽(6)的内侧壁上均匀对称开设有多个扇形限位槽(7),所述支撑主体(1)的外侧壁上对称固定设有多个扇形限位块(10),且每个扇形限位块(10)位于位置相对应的扇形限位槽(7)内。 6.一种塔楼局部与地下室顶板设缝结构的处理方法,其特征在于,包括以下步骤: S1、在地下室顶板(4)在需要设缝的位置顶面设置厚聚四氟乙烯板(3); S2、在厚聚四氟乙烯板(3)顶面设置柱基础(2); S3、在柱基础(2)上设置支撑主体(1)。 |
所属类别: |
发明专利 |