专利名称: |
用于均匀化气体的混合的设备 |
摘要: |
本公开涉及机械工程领域。特别地,本公开涉及一种与化学发光检测器(CLD)一起使用的设备,其用于均匀化气体的混合,该设备包括外导管(102);穿过所述外导管(102)的内导管(104);第一通道(104),其穿过所述内导管(102)限定,以导通所述两种流体中的一种;所述外导管(102)的内壁(102’)与所述内导管(104)的外壁(104’)间隔开以限定第二通道(102A),用于导通所述两种流体中的第二流体;所述外导管(102)限定底端(102B),所述内导管(104)限定相对于所述底端(102B)凹进的第一出口(104B)。反应区(106)限定在所述第一出口(104B)和所述底端(102B)之间的凹进部中,用于从所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)引入所述两种流体以均匀化。本发明的均匀化设备的技术进步在于,它有利于气体的均匀混合,并允许混合物在CLD探测器的中心行进,以避免由于不当的混合、气体短路流动和CLD中的光淬灭而引起的光子损失。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
德国;DE |
申请人: |
艾默生过程管理两合公司 |
发明人: |
T.D.杜布;J.戈特沙尔德;E.沃巴赫;M.温特 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-02-09T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-15T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201880019412.6 |
公开号: |
CN110462384A |
代理机构: |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人: |
许睿峤 |
分类号: |
G01N21/76(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
德国韦斯灵 |
主权项: |
1.一种用于均匀化两种流体的设备(100),包括: a)外导管(102); b)内导管(104),其穿过所述外导管(102); c)第一通道(104),其穿过所述内导管(102)限定,用于导通所述两种流体中的一种; d)所述外导管(102)的内壁(102’)与所述内导管(104)的外壁(104’)间隔开,以限定第二通道(102A),用于导通所述两种流体中的第二流体; e)所述外导管(102)限定底端(102B); f)所述内导管(104)限定相对于所述底端(102B)凹进的第一出口(104B);以及 g)反应区(106),其限定在所述第一出口(104B)和所述底端(102B)之间的凹进部中,用于从所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)引入所述两种流体以均匀化。 2.如权利要求1所述的设备(100),其中,所述外导管(102)和所述内导管(104)是同轴的。 3.如权利要求1所述的设备(100),其中,所述第一通道(104A)和所述第二通道(102A)是同轴的。 4.如权利要求1所述的设备(100),包括排出端口(108),用于在均匀化之后从所述反应区(106)排出所述流体。 5.如权利要求1所述的设备(100),其中,所述内导管(104)和所述外导管(102)是不锈钢,且所述外导管(102)的内壁(102’)和所述内导管(104)的外壁(104’)被抛光。 6.如权利要求1所述的设备(100),其中,所述外导管(102)具有两个入口(110),该两个入口配置在所述外导管(102)上的径向相对的位置处。 7.如权利要求6所述的设备(100),其中,等量的第二流体经由所述两个入口(110)馈送给所述反应区(106)。 8.如权利要求1所述的设备(100),其中,所述底端(102B)定位在光子检测器(200)附近,所述光子检测器用于检测由通过第一通道(104A)的含有一氧化氮的样品流体和通过第二通道(102A)的臭氧的反应在所述反应区(106)中产生的光子,所述两种流体在所述反应区(106)中反应。 9.一种均匀化两种流体的过程,其通过将所述两种流体引入通过相对于外导管(102)凹进内导管(104)的出口(104B)而形成的反应区(106)中,所述两种流体中的一种被引导通过所述内导管进入所述反应区(106)中,外导管(102)穿过所述内导管(104),所述两种流体中的第二流体通过所述内导管(104)的外壁(104’)和所述外导管(102)的内壁(102’)之间的环形空间被馈送到所述反应区(106)中。 10.如权利要求9所述的过程,其中,所述流体中的每一种可以是单一流体或流体混合物。 11.如权利要求9所述的过程,其中,所述流体中的每一种在引入所述第一通道和第二通道之前被预加压。 |
所属类别: |
发明专利 |