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原文传递贴标位置控制方法、控制系统、存储介质、及贴标机

专利名称：	贴标位置控制方法、控制系统、存储介质、及贴标机
摘要：	本发明提供贴标位置控制方法、控制系统、存储介质、及贴标机。本发明的技术方案，通过获取待贴标裁片的外轮廓轨迹的坐标信息；根据所述外轮廓轨迹的坐标信息确定所述裁片的几何中心点坐标；将所述几何中心点坐标作为最终的贴标位置，从而避免现有技术中根据文件里的错误坐标信息贴标而导致将标签贴于裁片外部的问题，大大提高了贴标签的效率及准确程度。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	浙江;33
申请人：	拓卡奔马机电科技有限公司
发明人：	罗俊杰;项林辉;周超;欧亚;甘田
专利状态：	有效
申请日期：	2018-05-08T00:00:00+0800
发布日期：	2019-11-15T00:00:00+0800
申请号：	CN201810430254.5
公开号：	CN110451045A
代理机构：	上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人：	陈珊珊
分类号：	B65C9/40(2006.01);B;B65;B65C;B65C9
申请人地址：	317000浙江省台州市临海市江南街道七一河路181号
主权项：	1.一种贴标位置控制方法，其特征在于，包括：获取待贴标裁片的外轮廓轨迹的坐标信息；根据所述外轮廓轨迹的坐标信息确定所述裁片的几何中心点坐标；将所述几何中心点坐标作为最终的贴标位置。 2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述外轮廓轨迹的坐标信息确定所述裁片的几何中心点坐标，包括：识别出所述裁片沿X轴方向的最大横坐标与最小横坐标，以及所述裁片沿Y轴方向的最大纵坐标与最小纵坐标；查找所述外轮廓轨迹中横坐标最接近(最大横坐标+最小横坐标)/2值的多个轨迹点，并计算这几个轨迹点的纵坐标的平均值，据以作为所述几何中心点的纵坐标；并且，查找所述外轮廓轨迹中纵坐标最接近(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的多个轨迹点，并计算这几个轨迹点的横坐标的平均值，据以作为所述几何中心点的横坐标；基于计算得到的横坐标与纵坐标确定所述几何中心点坐标。 3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述最接近(最大横坐标+最小横坐标)/2值的多个轨迹点包括横坐标大于或小于(最大横坐标+最小横坐标)/2值的轨迹点；所述最接近(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的多个轨迹点包括纵坐标大于或小于(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的轨迹点。 4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，横坐标大于(最大横坐标+最小横坐标)/2值的轨迹点数量与横坐标小于(最大横坐标+最小横坐标)/2值的轨迹点数量相同或不同；纵坐标大于(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的轨迹点数量与纵坐标小于(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的轨迹点数量相同或不同。 5.一种贴标位置控制系统，其特征在于，包括：输入模块，用于获取待贴标裁片的外轮廓轨迹的坐标信息；控制模块，用于根据所述外轮廓轨迹的坐标信息确定所述裁片的几何中心点坐标；以及用于将所述几何中心点坐标作为最终的贴标位置。 6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述控制模块根据所述外轮廓轨迹的坐标信息确定所述裁片的几何中心点坐标的实现方式包括：识别出所述裁片沿X轴方向的最大横坐标与最小横坐标，以及所述裁片沿Y轴方向的最大纵坐标与最小纵坐标；查找所述外轮廓轨迹中横坐标最接近(最大横坐标+最小横坐标)/2值的多个轨迹点，并计算这几个轨迹点的纵坐标的平均值，据以作为所述几何中心点的纵坐标；并且，查找所述外轮廓轨迹中纵坐标最接近(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的多个轨迹点，并计算这几个轨迹点的横坐标的平均值，据以作为所述几何中心点的横坐标；基于计算得到的横坐标与纵坐标确定所述几何中心点坐标。 7.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述最接近(最大横坐标+最小横坐标)/2值的多个轨迹点包括横坐标大于或小于(最大横坐标+最小横坐标)/2值的轨迹点；所述最接近(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的多个轨迹点包括纵坐标大于或小于(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的轨迹点。 8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，横坐标大于(最大横坐标+最小横坐标)/2值的轨迹点数量与横坐标小于(最大横坐标+最小横坐标)/2值的轨迹点数量相同或不同；纵坐标大于(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的轨迹点数量与纵坐标小于(最大纵坐标+最小纵坐标)/2值的轨迹点数量相同或不同。 9.一种存储介质，其中存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器加载执行时，实现如权利要求1至4中任一所述的贴标位置控制方法。 10.一种贴标机，其特征在于，包括：处理器、及存储器；其中，所述存储器用于存储计算机程序；所述处理器用于加载执行所述计算机程序，以使所述贴标机执行如权利要求1至4中任一所述的贴标位置控制方法。
所属类别：	发明专利