专利名称: |
一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置 |
摘要: |
本实用新型公开了一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置,具体涉及陶瓷生产领域,包括底板,所述底板顶部设有第一承载组件与供料组件,所述供料组件设于第一承载组件一侧,所述供料组件包括限位底座,所述限位底座顶部设有下罐体,所述下罐体内部固定设有振动腔,所述振动腔内部设有第一振动电机,所述下罐体外侧固定设有第二振动电机,所述下罐体顶部设有上罐体,所述上罐体外侧套接设有限位套。本实用新型在有效回收釉料的同时对釉料进行振动,进而有效除去釉料在回收过程中所进入的气泡,有效避免釉料资源浪费以及陶瓷生产成本上升的同时还可以有效保证回收后釉料的质量,使其可以直接进行使用,设计合理,具有较高的实用性。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
江西;36 |
申请人: |
景德镇常青家园工艺品有限公司 |
发明人: |
李文峰;李德生 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-12-28T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-26T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201822221935.9 |
公开号: |
CN209682516U |
代理机构: |
南昌恒桥知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
杨志宇 |
分类号: |
B28B11/04(2006.01);B;B28;B28B;B28B11 |
申请人地址: |
333000 江西省景德镇市高新区兴园路15号 |
主权项: |
1.一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)顶部设有第一承载组件(2)与供料组件(3),所述供料组件(3)设于第一承载组件(2)一侧,所述供料组件(3)包括限位底座(4),所述限位底座(4)顶部设有下罐体(5),所述下罐体(5)内部固定设有振动腔(6),所述振动腔(6)内部设有第一振动电机(7),所述下罐体(5)外侧固定设有第二振动电机(8),所述下罐体(5)顶部设有上罐体(9),所述上罐体(9)外侧套接设有限位套(10),所述限位套(10)外侧固定设有旋转盘(11)。 2.根据权利要求1所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置,其特征在于:所述下罐体(5)外侧顶部、上罐体(9)外侧底部和限位套(10)内侧均设有螺纹,所述下罐体(5)和上罐体(9)均与限位套(10)螺纹连接。 3.根据权利要求1所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置,其特征在于:所述上罐体(9)顶部贯穿设有进料管(12)与出料管(13),所述出料管(13)上设有吸泵(14),所述吸泵(14)端部设有给料软管(15)。 4.根据权利要求1所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置,其特征在于:所述第一承载组件(2)包括放置板(16),所述放置板(16)顶部固定设有遮挡罩(25)以及底部固定设有存储腔(17),所述存储腔(17)内部设有导向块(18),所述导向块(18)截面设置为正三角形。 5.根据权利要求4所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置,其特征在于:所述存储腔(17)两侧以及底部均固定设有第三振动电机(19),所述放置板(16)顶部设有第二承载组件(20)。 6.根据权利要求5所述的一种釉液循环式陶瓷生产用淋釉装置,其特征在于:所述第二承载组件(20)包括承载板(21),所述承载板(21)底部固定设有支撑杆(22)以及侧面固定设有握把(23),所述放置板(16)与承载板(21)上均贯穿设有落料孔(24)。 |
所属类别: |
实用新型 |