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原文传递 一种高坝溢流面射流控制结构
专利名称: 一种高坝溢流面射流控制结构
摘要: 本实用新型公开了一种高坝溢流面射流控制结构,包括溢流面、外坡面、内坡面、分流面和坝基,所述溢流面设置在坝基右侧,溢流面中部右设置有分流面,分流面底部设置有若干个偏流块,分流面底部前后两侧均设置有支撑脚,支撑脚穿过溢流面插设在坝基内,偏流块两两之间设置有空腔,所述溢流面包括外坡面和内坡面,所述内坡面上设置有若干个缓冲槽。与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:溢流面上设置有分流面,能将水流分成两股,分别控制;溢流面内分有外坡面和内坡面,落到外坡面上的水流最终落到偏流块上,并与分流面分出的水流发生碰撞,从而起到卸能的作用;内坡面内设置有若干个缓冲槽,同样能起到卸能作用。
专利类型: 实用新型
国家地区组织代码: 云南;53
申请人: 昆明理工大学
发明人: 苏琨;王卿;彭依云
专利状态: 有效
申请日期: 2019-03-26T00:00:00+0800
发布日期: 2019-12-03T00:00:00+0800
申请号: CN201920389435.8
公开号: CN209722886U
代理机构: 苏州拓云知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人: 马鸿杰
分类号: E02B7/02(2006.01);E;E02;E02B;E02B7
申请人地址: 650500 云南省昆明市呈贡区景明南路昆明理工大学
所属类别: 实用新型
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