专利名称: | 吸气保持装置 |
摘要: | 吸气保持装置10包括一个台子24,一个晶片保持装置H安装在该台子24上,并且吸气侧管道25连接到台子24上。台子24包括一个吸气平面28和一个室32,上述吸气平面28在其上面一侧具有多个吸气孔27,而室32与吸气孔27成流体连通。室32这样安排,以使它被分成多个相互隔开的单元37、38和39,并且,当从吸气平面28中取出晶片保持装置H时,将空气按顺序从台子24的外侧朝内侧独立地供给到相应的单元37-39上。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 琳得科株式会社 |
发明人: | 黑川秀二 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2002-12-04T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN02154788.2 |
公开号: | CN1422794 |
代理机构: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人: | 王彦斌 |
分类号: | B65H3/34 |
申请人地址: | 日本东京都 |
所属类别: | 发明专利 |