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一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置及测试方法
| 专利名称： | 一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置及测试方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置及测试方法。所述的测试装置包括沿光轴方向依次设置的光源、聚光透镜、准直透镜、起偏器、相位补偿器、检偏器、成像镜头和相机，待测晶体置于相位补偿器和检偏器之间，所述的相位补偿器由两块光楔构成，通过调节两块光楔的相对位置来调节相位延迟量，其中所述光楔的材质为成分与待测晶体相同且光学均匀性好的晶体。本发明所述装置结构简单、成本低廉且便于维护。与传统测试方法相比，本发明所述方法无需反复测试背景干扰及不同偏振态激光通过晶体形成干涉图，受环境影响小，测试效率高、适合批量化的生产检测；而且本发明所述方法操作简单、对测试晶体的加工要求不高，易于推广使用。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 广西;45 |
| 申请人： | 桂林百锐光电技术有限公司 |
| 发明人： | 吴文渊;宋旭东;何小玲;张昌龙;卢福华;王金亮;周海涛;李东平;覃世杰;左艳彬 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2019-10-17T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-12-20T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201910987283.6 |
| 公开号： | CN110596042A |
| 代理机构： | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 |
| 代理人： | 唐智芳 |
| 分类号： | G01N21/45(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 541004 广西壮族自治区桂林市七星区高新区铁山工业园铁山路20号 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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