专利名称: | 用于处理扁平、易碎基体的装置 |
摘要: | 本发明涉及一种用于处理扁平、易碎基体(2)的装置(1),其中, 所述基体(2)在一处理腔中由处理液(14)加载作用。为此所述基体由输 送装置(3)沿多个相互平行的轨迹引导水平穿行通过所述处理腔。至少一 个对置保持装置(7、22)作用在基体(2)朝上的一侧上,并防止基体从 输送装置(3)上抬起。为此将多个对置保持元件(7)这样固定在一共同 的、跨越在不同轨迹上的轴(22)上,即,所述对置保持元件沿垂直方向 可以相互独立地运动,并且能够在基体(2)上施加与基体的厚度基本上无 关的压力。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 霍尔穆勒机械制造有限公司 |
发明人: | T·科西科夫斯基 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2007-07-19T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200710136147.3 |
公开号: | CN101110350 |
代理机构: | 北京市中咨律师事务所 |
代理人: | 吴 鹏;马江立 |
分类号: | H01L21/00(2006.01)I |
申请人地址: | 德国黑伦贝格 |
所属类别: | 发明专利 |