专利名称: |
一种用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法 |
摘要: |
本发明涉及一种用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法。选择一种几何测量条件为45/0,环形光源照明的颜色测量仪器;选取待测试素面镭射母版上的任一位置,将其作为测量区域;保持颜色测量仪器测量孔径与测量点的相对位置不变,测量素面镭射母版的光谱能量信息;将采集到的光谱能量信息在可见光范围内绘制光谱能量分布曲线图,分析绘制的光谱能量分布曲线的形状和峰值波长出现的位置;结合光栅方程,计算得到待测试素面镭射母版的光栅常数。该方法能在没有高倍放大镜和多角度分光光度计的情况下能通过测量的任意一个位置一个角度的光谱能量信息,快速、准确计算出素面镭射母版的光栅常数,在实际生产中具有重要意义。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
北京印刷学院 |
发明人: |
黄敏;习永惠;李修;刘瑜 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-01-16T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-03T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910041825.0 |
公开号: |
CN109709053A |
代理机构: |
北京市广友专利事务所有限责任公司 |
代理人: |
耿小强 |
分类号: |
G01N21/31(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
102600 北京市大兴区兴华大街二段1号 |
主权项: |
1.一种用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,包括如下步骤: (1)选择一种几何测量条件为45/0,环形光源照明的颜色测量仪器; (2)选取待测试素面镭射母版上的任一位置,将其作为测量区域; (3)保持颜色测量仪器测量孔径与测量点的相对位置不变,测量素面镭射母版的光谱能量信息; (4)将步骤(3)中采集到的光谱能量信息在可见光范围内绘制光谱能量分布曲线图,分析绘制的光谱能量分布曲线的形状和峰值波长出现的位置; (5)结合光栅方程,计算得到待测试素面镭射母版的光栅常数。 2.根据权利要求1所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:所述的颜色测量仪器为分光光度计,光源入射角为45°,光电探测器件接收角度为0°。 3.根据权利要求2所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:所述的颜色测量仪器的测量光谱范围不小于400nm-700nm,测量带宽不小于10nm。 4.根据权利要求1所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:所述的素面镭射母版上的测量区域为无明显划痕、蹭脏的平整区域。 5.根据权利要求1所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:测量时,分光光度计测量孔径与素面镭射母版直接接触测量。 6.根据权利要求5所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:测量时,素面镭射纸和颜色测量仪器的相对夹角可以任意,一次测量即可完成素面镭射纸光栅常数的计算。 7.根据权利要求1所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:根据光谱能量分布曲线图上不同波长位置处的峰值能量分布,得到一级衍射极大波长。 8.根据权利要求7所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:将得到的一级衍射极大波长结合光栅方程,计算得到光栅常数。 9.根据权利要求8所述的用分光光度计测量素面镭射母版光栅常数的方法,其特征在于:光栅方程为d(sin i+sin j)=kλ;其中,d为光栅周期,i为入射角,j为衍射角,λ为入射光波长,k为衍射级数,k=±1,2,3……。 |
所属类别: |
发明专利 |