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原文传递药剂分配器装置

专利名称：	药剂分配器装置
摘要：	根据本发明，公开了一种用于分配药剂的分配器装置，该装置包括至少一个部件，所述至少一个部件具有涂层，该涂层在储存或使用该装置期间在所述至少一个部件的至少一个表面上与药剂接触，所述涂层包括交联的非类金刚石碳层，所述交联的非类金刚石碳层包含50At％或者更低的氢，并且与所述部件的下垫面具有界面。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	英国;GB
申请人：	波特医疗有限公司
发明人：	达伦·布罗姆利-达文波特;保罗·史蒂文森
专利状态：	有效
申请日期：	2018-10-29T00:00:00+0800
发布日期：	2019-05-07T00:00:00+0800
申请号：	CN201811269276.4
公开号：	CN109720742A
代理机构：	北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：	唐曙晖;景全斌
分类号：	B65D83/38(2006.01);B;B65;B65D;B65D83
申请人地址：	英国德比郡德比
主权项：	1.一种用于分配药剂的分配器装置，所述装置包括至少一个部件，所述至少一个部件具有涂层，所述涂层在所述装置的储存或使用期间在所述至少一个部件的至少一个表面上与药剂接触，所述涂层包括交联的非类金刚石碳层，所述交联的非类金刚石碳层包含50At％或者更低的氢，并且与所述部件的下垫面具有界面。 2.根据权利要求1所述的分配器装置，其中，所述碳层包括10At％的氢或者更少的氢。 3.根据任一前述权利要求所述的分配器装置，其中，所述碳层中的交联为至少80％，优选地为至少90％，更优选地为至少95％。 4.根据权利要求1所述的分配器装置，其中，通过XPS进行测量，所述碳层包括小于约3At％的氧，优选地包括小于约2At％的氧，更优选地包括约小于1At％的氧。 5.根据权利要求1所述的分配器装置，其中，所述涂层包括第二层，所述第二层在储存或使用所述装置期间与所述药剂接触。 6.根据权利要求1所述的分配器装置，其中，所述第二层是疏水层、聚合物层或无机层中的至少一种。 7.根据权利要求1所述的分配器装置，其中，所述分配器装置是加压分配器装置的形式，所述加压分配器装置将所述药剂在载液中分配。 8.根据权利要求1所述的分配器装置，其中，所述至少一个部件是金属部件或者聚合物部件。 9.根据权利要求1所述的分配器装置，其中，所述至少一个部件是罐体，并且所述罐体的内表面具有所述涂层。 10.一种处理药剂分配器装置的部件的方法，所述药剂分配器装置包括在所述装置的储存或使用期间与药剂接触的至少一个表面，所述方法包括以下步骤：提供所述部件；用包括交联的非类金刚石碳层的涂层涂覆所述至少一个表面，所述交联的非类金刚石碳层具有50％或者更低的氢含量并且与所述装置的所述至少一个表面具有界面。 11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述碳层通过等离子处理步骤形成，所述等离子处理步骤包括产生至少一种烃单体的等离子体。 12.根据权利要求10或者权利要求11所述的方法，所述涂层包括在该装置的储存或使用期间与所述药剂接触的第二层，其中，所述第二层通过等离子体沉积形成。 13.一种用于分配药剂的分配器装置，所述装置包括至少一个部件，所述至少一个部件在该部件的至少一个表面上具有涂层，所述涂层包括碳基层和第二层，所述碳基层与部件的下垫面具有界面，所述第二层在所述装置的储存或者使用期间与所述药剂接触。 14.一种处理药剂分配器装置的部件的方法，所述药剂分配器装置包括在所述装置的储存或使用期间与药剂接触的至少一个表面，所述方法包括以下步骤：提供所述部件；用涂层涂覆所述至少一个表面，所述涂层包括碳基层和第二层，所述碳基层与所述部件的下垫面具有界面，所述第二层在所述装置的储存或者使用期间与所述药剂接触。
所属类别：	发明专利