专利名称: |
三维荧光中瑞利散射扣除方法 |
摘要: |
一种三维荧光中瑞利散射扣除方法,涉及一种消除荧光瑞利散射方法,该方法是先找出与荧光不重叠的瑞利峰,获取瑞利峰数据R,将瑞利峰数据R消除随机误差和噪声后作为单位瑞利峰RD;从瑞利峰与荧光出现交叠的发射光谱开始,逐步消除瑞利峰,直至所有交叠的瑞利散射被消除。本发明可消除三维荧光的瑞利散射,不仅可保证重复性,也不需要重复测量空白,从而节约了测量时间,还降低了信息量损失的风险,其方法简便,易于推广。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广西;45 |
申请人: |
广西科技大学 |
发明人: |
姚志湘;姚桔;粟晖;刘柳 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-03-11T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-14T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910180517.6 |
公开号: |
CN109752357A |
代理机构: |
柳州市荣久专利商标事务所(普通合伙) |
代理人: |
周小芹 |
分类号: |
G01N21/64(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
545006 广西壮族自治区柳州市东环大道268号 |
主权项: |
1.一种三维荧光中瑞利散射扣除方法,其特征在于:该方法是先找出与荧光不重叠的瑞利峰,获取瑞利峰数据R,将瑞利峰数据R消除随机误差和噪声后作为单位瑞利峰RD;从瑞利峰与荧光出现交叠的发射光谱开始,逐步消除瑞利峰,直至所有交叠的瑞利散射被消除。 2.根据权利要求1所述的三维荧光中瑞利散射扣除方法,其特征在于:该方法包括以下步骤: S1.测量样本的三维荧光光谱; S2.找出与荧光不重叠的瑞利峰,将含完整的瑞利峰型数据另外存储为R; S3.取瑞利峰数据R,以中心波长对齐,按峰高归一化后平均,消除随机误差和噪声,作为后续的单位瑞利峰RD; S4.从瑞利峰与荧光出现交叠的发射光谱开始,逐步消除瑞利峰; S5.依次对下一波长交叠的发射光谱,直至所有交叠的瑞利散射被消除。 3.根据权利要求2所述的三维荧光中瑞利散射扣除方法,其特征在于:在步骤S4中,是按照以下瑞利峰扣除步骤进行消除瑞利峰: S4-1.将单位瑞利峰RD中心波长λ与荧光-瑞利交叠光谱中的瑞利峰中心位对齐; S4-2.选择交叠光谱附近若干个相邻发射谱,构成比对矩阵M; S4-3.以单位瑞利峰RD强度为步长Δ,从交叠光谱中扣减Δ,得到扣减后的光谱K; S4-4.计算光谱K与比对矩阵M的夹角θ; S4-5.依次增加步长n Δ,n=2,3,…n,重复步骤S4-3和S4-4,直至出现最小夹角值θmin; S4-6.将交叠光谱减去与最小夹角对应步长强度nΔ的瑞利峰,即完成了瑞利峰的扣除。 4.根据权利要求3所述的三维荧光中瑞利散射扣除方法,其特征在于:在步骤S4-2中,所述的选择交叠光谱附近若干个相邻发射谱是选择与中心波长λ处光谱间隔大于等于10nm的4个发射谱。 |
所属类别: |
发明专利 |