专利名称: |
无模具装饰混凝土制作方法及转印基膜 |
摘要: |
本发明公开了一种无模具装饰混凝土制作方法和转印基膜,解决了目前无法在立面、斜面或曲面的构件的基础上制备装饰混凝土的问题。技术方案包括将缓凝剂按图案转印在基膜上,所述基膜上均匀分布有多个气孔;将砂浆涂抹在构件上;在砂浆表面贴上印有缓凝剂图案的基膜,有图案的一面与砂浆接触并贴平,将接触面的气体推至气孔排出;养护一段时间,得到硬化的混凝土基体;将基膜从混凝土基体上撕下;用水冲洗混凝土基体表面,使得骨料露出得到图案。本发明转印基膜,所述基膜上均匀分布有若干气孔,与砂浆的接触面转印有缓凝剂。本发明方法简单、操作难度低、可在具有立面、斜面或曲面的构件上制作装饰混凝土,具有良好的图案精细程度。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
湖北;42 |
申请人: |
湖北工业大学 |
发明人: |
张运华;张志鹏;闵捷;袁颂东;刘芷怡 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-12-24T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-21T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201811581270.0 |
公开号: |
CN109773956A |
代理机构: |
武汉开元知识产权代理有限公司 |
代理人: |
涂洁 |
分类号: |
B28B19/00(2006.01);B;B28;B28B;B28B19 |
申请人地址: |
430068 湖北省武汉市洪山区南李路28号 |
主权项: |
1.一种无模具装饰混凝土制作方法,其特征在于,包括以下步骤: a、制备转印膜:将缓凝剂按图案转印在基膜上,所述基膜上均匀分布有若干气孔; b、涂抹砂浆:将砂浆涂抹在构件上并找平; c、贴上基膜:在砂浆表面贴上印有缓凝剂图案的基膜,有图案的一面与砂浆接触并贴平,将接触面的气体推至气孔排出; d、养护:养护一段时间,得到硬化的混凝土基体; e、揭开基膜:将基膜从混凝土基体上撕下; f、水冲洗:用水冲洗混凝土基体表面,使得部分骨料露出得到图案。 2.如权利要求1-4任一项所述的装饰混凝土制作方法,其特征在于:所述构件具有立面、斜面或曲面的表面。 3.如权利要求1或2所述的无模具装饰混凝土制作方法,其特征在于:所述基膜与砂浆的接触面为磨砂面。 4.如权利要求1或2所述的无模具装饰混凝土制作方法,其特征在于:所述气孔的直径在0.1mm以下。 5.如权利要求1或2所述的无模具装饰混凝土制作方法,其特征在于:所述砂浆流动度小于120mm。 6.如权利要求1或2所述的无模具装饰混凝土制作方法,其特征在于:单片基膜面积不大于3m2。 7.一种用于无模具装饰混凝土制作方法的转印基膜,包括基膜,其特征在于,所述基膜上均匀分布有若干气孔,与砂浆的接触面转印有缓凝剂。 8.如权利要求7所述的转印基膜,其特征在于:所述气孔的直径在0.1mm以下。 9.如权利要求7或8所述的转印基膜,其特征在于:所述基膜与砂浆的接触面为磨砂面。 10.如权利要求7或8所述的转印基膜,其特征在于:单片基膜面积不大于3m2。 |
所属类别: |
发明专利 |