专利名称: |
一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪 |
摘要: |
本实用新型记载了一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪,包括入射狭缝、准直镜、光栅、成像反射镜以及CCD探测器;在CCD探测器与成像反射镜之间设置有伸缩式陷光挡板,且陷光挡板为低反射率挡板。由于采用了上述技术,本实用新型通过在现有光谱仪的CCD探测器面前增加一个陷光用的陷光挡板,该陷光挡板的位置可以根据激发峰的波长进行位置调节以确保该激发峰被挡住,而仅通过发射峰。此时,可以对发射峰进行重新曝光,以便增加曝光时间,由于激发峰被遮挡使得曝光时间可以加长,从而形成更高的饱和度,并增加光谱的测量质量,此时信号的信噪比远远高于有激发峰一同存在情况下的发射谱光谱信号,从而达到了准确测量低量子效率物质等目的。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
上海;31 |
申请人: |
上海倍蓝光电科技有限公司 |
发明人: |
于立民 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-07-13T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-05-24T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201821108746.4 |
公开号: |
CN208902606U |
分类号: |
G01N21/63(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
201517 上海市金山区吕巷镇溪南路86号31幢2107室 |
主权项: |
1.一种专用光致发光光谱测量的CCD光谱仪,包括入射狭缝、准直镜、光栅、成像反射镜以及CCD探测器;标准光源自入射狭缝射入CCD光谱仪并依次经过准直镜、光栅、成像反射镜以及CCD探测器; 其特征在于,所述CCD探测器与成像反射镜之间设置有伸缩式陷光挡板,所述陷光挡板为低反射率挡板。 2.根据权利要求1所述的CCD光谱仪,其特征在于,所述陷光挡板通过驱动机构实现伸缩运动。 3.根据权利要求2所述的CCD光谱仪,其特征在于,处于完全伸展状态的陷光挡板完整地覆盖所述CCD探测器的探测面。 4.根据权利要求2所述的CCD光谱仪,其特征在于,所述驱动机构包括控制系统和电机,所述控制系统通过控制电机来驱动陷光挡板做伸缩运动。 5.根据权利要求4所述的CCD光谱仪,其特征在于,所述驱动机构根据激发峰的波长调节所述陷光挡板的伸缩位置,并确保挡住所述激发峰而仅通过发射峰。 6.根据权利要求4所述的CCD光谱仪,其特征在于,所述标准光源从狭缝射入CCD光谱仪,经过准直镜形成平行光,再经由光栅进行分光形成单色光分布,单色光打到成像反射镜,最后经过成像反射镜汇聚成单色光在像面上的分布。 7.根据权利要求6所述的CCD光谱仪,其特征在于,对所述标准光源的标定包括光谱标定和信号绝对幅值标定。 8.根据权利要求7所述的CCD光谱仪,其特征在于,所述光谱标定采用汞氩灯作为标准源,并对所述控制系统的定位精度进行标定。 9.根据权利要求1所述的CCD光谱仪,其特征在于,还包括光谱采集系统,所述光谱采集系统设置有与之关联的控制系统、采集系统以及标定系统。 10.根据权利要求1所述的CCD光谱仪,其特征在于,所述CCD光谱仪依次通过光纤和SMA适配器与积分球相连,所述积分球的底部设置有样品架。 |
所属类别: |
实用新型 |