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一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法
| 专利名称： | 一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，所述制备方法包括奥氏体合金试样制样、打磨、抛光、精抛、两步超声处理和吹干工序；所述精抛工序，精抛过程使用20‑50nm粒度的二氧化硅悬浮液，金相磨抛机转速≤100转/分钟，精抛时间≥10min；所述两步超声处理工序，超声处理第一步将样品置于10‑45℃的10%NaOH水溶液中进行超声清洗，清洗时间≥3min。本发明与国标GBT19501相比不需要电解抛光过程，不需购置专用设备，减少了制备环节，简单方便，降低了成本；有效克服了现有的电解抛光方法需要专业设备、制样成本高、抛光工艺摸索时间长和电解液污染环境等问题。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 河北;13 |
| 申请人： | 河钢股份有限公司 |
| 发明人： | 马成;潘进;魏浩;罗扬;安会龙;孙力 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2018-12-20T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-06-07T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201811563427.7 |
| 公开号： | CN109855931A |
| 代理机构： | 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 |
| 代理人： | 曹淑敏 |
| 分类号： | G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1 |
| 申请人地址： | 050023 河北省石家庄市体育南大街385号 |
| 主权项： | 1.一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括奥氏体合金试样制样、打磨、抛光、精抛、两步超声处理和吹干工序；所述精抛工序，精抛过程使用20-50nm粒度的二氧化硅悬浮液，金相磨抛机转速≤100转/分钟，精抛时间≥10min；所述两步超声处理工序，超声处理第一步将样品置于10-45℃的10%NaOH水溶液中进行超声清洗，清洗时间≥3min。 2.根据权利要求1所述的一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述打磨工序，打磨过程依次使用80-150目、400-600目、800-1000目和2000-3000目碳化硅水磨砂纸，金相磨抛机转速≤400转/分钟。 3.根据权利要求1所述的一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述抛光工序，抛光过程依次使用2.5-3.5μm、1-1.5μm和0.5μm粒度的金刚石抛光膏抛光，金相磨抛机转速≤400转/分钟。 4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述两步超声处理工序，超声处理第二步将样品置入10-55℃的无水乙醇中进行超声清洗，清洗时间≥5min。 5.根据权利要求1-3任意一项所述的一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述NaOH、无水乙醇试剂为分析纯。 6.根据权利要求1-3任意一项所述的一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述用水为去离子水，其电阻率达18.25MΩ/cm。 7.根据权利要求1-3任意一项所述的一种奥氏体合金EBSD样品的制备方法，其特征在于，所述制备方法适用的合金显微组织为奥氏体等轴晶，其晶体结构为面心立方结构。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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