专利名称: |
一种石英晶片检测装置 |
摘要: |
本实用新型涉及一种石英晶片检测装置,包括控制器,输送带一,输送带二,输送带三,定位座,气缸一,气杆一,检测架,安装架,气缸二,气杆二,活动块一,气缸三,气杆三,吸嘴,拨料装置,限位架,所述的控制器在安装架的一侧,其特征在于:所述的输送带一在检测架的一侧,所述的输送带一在检测架的一端,所述的气缸一安装在定位座上,所述的气杆一与气缸一连接,所述的检测架安装在气杆一上,所述的活动块一安装在导轨一上,所述的气缸二安装在安装架上,所述的限位架在检测块的上方,所述的拨料装置在限位架的下方。本实用新型通过石英晶片检测装置的设置,实现了石英晶片尺寸的自动化检测,提高了生产效率,降低了生产成本。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
湖南;43 |
申请人: |
益阳市华光科技电子有限公司 |
发明人: |
刘文越;葛四合;邓天将 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-09-30T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-06-14T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201821609640.2 |
公开号: |
CN208979783U |
代理机构: |
长沙明新专利代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
徐新 |
分类号: |
B65G47/248(2006.01);B;B65;B65G;B65G47 |
申请人地址: |
413000 湖南省益阳市资阳区长春经济开发区 |
主权项: |
1.一种石英晶片检测装置,包括控制器,输送带一,输送带二,输送带三,定位座,气缸一,气杆一,检测架,安装架,气缸二,气杆二,活动块一,气缸三,气杆三,吸嘴,拨料装置,限位架,所述的控制器在安装架的一侧,其特征在于:所述的输送带一在检测架的一侧,所述的输送带一在检测架的一端,所述的气缸一安装在定位座上,所述的气杆一与气缸一连接,所述的检测架安装在气杆一上,所述的检测架包括检测块,下料道,踢料道,所述的检测块的一侧为下料道,所述的检测块的另一侧为踢料道,所述的安装架安装在定位座的一侧,所述的安装架上设有导轨一,所述的活动块一安装在导轨一上,所述的气缸二安装在安装架上,所述的气杆二一端与气缸二连接,所述的气杆二另一端与活动块一连接,所述的活动块一下方安装有气缸三,所述的气杆三一端与气缸三连接,所述的气杆三另一端与吸嘴连接,所述的限位架在检测块的上方,所述的拨料装置在限位架的下方。 2.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的输送带一上设有传感器一。 3.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的下料道与踢料道下方设有下限位传感器。 4.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的限位架下方设有上限位传感器。 5.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的拨料装置包括导轨二,活动块二,气缸四,气杆四,气缸五,拨料端,所述的导轨二安装在安装架的中部,所述的活动块二安装在导轨二上,所述的气缸四固定在导轨二的一端,所述的气杆四一端与气缸四连接,所述的气杆四另一端与活动块二连接,所述的气缸五安装在活动块二上,所述的拨料端安装在气缸五的一端。 6.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的检测块为红外检测板。 7.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的安装架一侧设有空压机。 8.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的输送带一一侧安装有电机一。 9.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的输送带二一侧安装有电机二。 10.如权利要求1所述的石英晶片检测装置,其特征在于:所述的输送带三一侧安装有电机三。 |
所属类别: |
实用新型 |