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原文传递基质辅助激光解吸/离子化质量分析方法

专利名称：	基质辅助激光解吸/离子化质量分析方法
摘要：	本发明涉及基质辅助激光解吸离子化(Matrix‑Assisted Laser Desorpt ion Ionization)质量分析方法，详细而言，根据本发明的质量分析方法包括：使分析对象物质进行基质辅助激光解吸离子化而得到质谱，分别利用两个以上的彼此不同的基质而得到作为分析对象物质的质谱的检测谱的步骤；以及在各个检测谱中去除该基质的峰而获得基质‑去除谱后，基于彼此不同的各个基质的基质‑去除谱而得到分析对象物质的校正的质谱的步骤。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	韩国;KR
申请人：	株式会社百奥尼
发明人：	金泰晚;金度勋;安宗錄;朴翰浯
专利状态：	有效
申请日期：	2017-10-30T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-18T00:00:00+0800
申请号：	CN201780067888.2
公开号：	CN109906377A
代理机构：	北京集佳知识产权代理有限公司
代理人：	苗堃;金世煜
分类号：	G01N27/62(2006.01);G;G01;G01N;G01N27
申请人地址：	韩国大田
主权项：	1.一种基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，包括：使分析对象物质进行基质辅助激光解吸离子化而得到质谱，分别利用两个以上的彼此不同的基质而得到作为分析对象物质的质谱的检测谱的步骤；以及在各个检测谱中去除该基质的峰而获得基质-去除谱后，基于彼此不同的各个基质的基质-去除谱而得到分析对象物质的校正的质谱的步骤。 2.根据权利要求1所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，所述校正的质谱是将两个以上的基质-去除谱中共同存在的峰与只存在于一个基质-去除谱中的峰进行合并而计算的。 3.根据权利要求1所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，包括： a)对包含所述分析对象物质和第一基质的第一试料照射激光而得到第一检测谱，对包含所述分析对象物质和第二基质的第二试料照射激光而得到第二检测谱的步骤； b)在所述第一检测谱中去除所述第一基质的峰而得到第一基质-去除谱，在所述第二检测谱中去除所述第二基质的峰而得到第二基质-去除谱的步骤；以及 c)基于所述第一基质-去除谱和所述第二基质-去除谱而得到所述分析对象物质的校正的质谱的步骤。 4.根据权利要求3所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，所述c)步骤包括：将作为所述第一基质-去除谱和所述第二基质-去除谱中共同存在的峰的共同峰与作为所述第一基质-去除谱和所述第二基质-去除谱中只存在于一个谱中的峰的补充峰进行合并的步骤。 5.根据权利要求4所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，还包括：在所述合并时，利用所述第一基质-去除谱的共同峰与所述第二基质-去除谱的共同峰之间的强度比来对所述补充峰的强度进行校正的步骤。 6.根据权利要求4所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，还包括：在所述合并时，计算出所述共同峰的各个m/z的平均强度而得到共同峰谱的步骤；以及所述共同峰谱中的一个峰的强度除以合并的补充峰所属的基质-去除谱中的与所述一个峰相同的m/z下的强度而得到比值，将该比值乘以所述补充峰的强度来对补充峰的强度进行校正的步骤。 7.根据权利要求3所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，所述b)步骤还包括在去除基质峰之前分别对第一检测谱和第二检测谱进行标准化的步骤，所述标准化步骤通过将检测谱中存在的各个峰的强度除以对检测谱中存在的各个峰的强度进行累积的总强度而进行。 8.根据权利要求3所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，在所述a)步骤之前还包括：分别对不含有分析对象物质且含有第一基质的第一基准试料以及不含有分析对象物质且含有第二基质的第二基准试料照射激光而得到各个基质的来自基质的质谱的步骤。 9.根据权利要求3所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，所述第一基质的峰与所述第二基质的峰中，两个基质之间最邻接的峰的质量即m/z差为1以上。 10.根据权利要求1所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，所述彼此不同的基质是选自α-氰基-4-羟基肉桂酸即CHCA、2,5-二羟基苯甲酸即DHB、2-(4-羟基苯基偶氮)-苯甲酸即HABA、2-巯基苯并噻唑即MBT和3-羟基吡啶甲酸即3-HPA中的两种以上的物质。 11.根据权利要求1所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，所述分析对象物质包含分子量1000道尔顿以下的化合物。 12.根据权利要求1所述的基质辅助激光解吸离子化质量分析方法，其中，所述基质辅助激光解吸离子化即MALDI质量分析利用了飞行时间质谱仪即TOF MS、离子阱质谱仪即ITMS、傅立叶变换-离子回旋共振质谱即FT-ICR MS、四级杆质谱仪或轨道离子阱质谱仪。
所属类别：	发明专利