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原文传递高光谱成像系统

专利名称：	高光谱成像系统
摘要：	本发明涉及一种高光谱成像系统，用于以具有快速分析时间的低信噪比方式对多个重叠光谱进行去噪和/或颜色分离。该系统可以配置为执行高光谱相量(HySP)计算，以有效地分析高光谱时延数据。例如，该系统可以配置为执行高光谱相量(HySP)计算以有效地分析五维(5D)高光谱时延数据。该成像系统的优点可包括：(a)快速计算速度，(b)相量分析的容易性，以及(c)用于获得最低可接受的信噪比(SNR)的去噪算法。可以生成目标的非混色图像。这些图像可以用于健康状况的诊断，这可以增强患者的临床结果和患者健康的进展。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	美国;US
申请人：	南加州大学
发明人：	弗朗切斯科·库特拉勒;斯科特·E·弗雷泽
专利状态：	有效
申请日期：	2017-11-07T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-21T00:00:00+0800
申请号：	CN201780069204.2
公开号：	CN109923401A
代理机构：	北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人：	张娜;顾丽波
分类号：	G01N21/64(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	美国加利福尼亚州
主权项：	1.一种用于生成目标的非混色图像的高光谱成像系统，包括：光学系统；和图像形成系统；其中：所述光学系统包括至少一个光学组件；所述至少一个光学组件包括至少一个光学检测器；所述至少一个光学检测器具有用于以下的配置：检测由所述目标上的至少一个物理点吸收、透射、折射、反射和/或发射的电磁辐射(“目标辐射”)，所述目标辐射包括至少两个波(“目标波”)，每个波具有强度和不同的波长；检测每个目标波的所述强度和所述波长；和将检测到的目标辐射以及检测到的每个目标波的强度和波长传输到所述图像形成系统；所述图像形成系统包括控制系统、硬件处理器、存储器和显示器；并且所述图像形成系统具有用于以下的配置：使用检测到的目标辐射形成所述目标的图像(“目标图像”)，其中，所述目标图像包括至少两个像素，并且其中，每个像素对应于所述目标上的一个物理点；使用检测到的每个目标波的强度和波长，为每个像素形成至少一个光谱(“强度谱”)；使用傅立叶变换将形成的每个像素的强度谱变换为基于每个像素的所述强度谱的复值函数，其中，每个复值函数具有至少一个实部和至少一个虚部；对每个复值函数的所述实部和所述虚部二者应用去噪滤光器至少一次，以便为每个像素产生去噪的实数值和去噪的虚数值；通过描绘每个像素的所述去噪的实数值与所述去噪的虚数值，在每个像素的相量平面上形成一个点(“相量点”)；基于所述相量平面上的所述相量点的几何位置，将所述相量点映射回所述目标图像上的相应像素；基于所述相量平面上的所述相量点的所述几何位置，将任意颜色分配给所述相应像素；基于分配的任意颜色生成所述目标的非混色图像；和在所述图像形成系统的显示器上显示所述目标的所述非混色图像。 2.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括用于照射所述目标的至少一个源(“照射源”)，其中，所述照射源产生电磁辐射(“照射源辐射”)，所述电磁辐射包括至少一个波(“照射波”)。 3.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述高光谱成像系统还包括至少一个照射源，其中，所述照射源产生包括至少两个照射波的照射源辐射，并且其中，每个照射波具有不同的波长。 4.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、滤光器、色散光学系统、或者它们的组合。 5.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、滤光器、色散光学系统、或者它们的组合。 6.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、滤光器、色散光学系统、或者它们的组合；并且其中，所述高光谱成像系统的所述光学组件配置为形成显微镜。 7.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、滤光器、色散光学系统、或者它们的组合；并且其中，所述高光谱成像系统的所述光学组件配置为形成显微镜。 8.根据权利要求6所述的高光谱成像系统，其中，所述高光谱成像系统的所述光学组件配置为形成共焦荧光显微镜、双光子荧光显微镜、或者它们的组合。 9.根据权利要求7所述的高光谱成像系统，其中，所述高光谱成像系统的所述光学组件配置为形成共焦荧光显微镜、双光子荧光显微镜、或者它们的组合。 10.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括第一光学透镜、第二光学透镜和二向色镜/分束器。 11.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括第一光学透镜、第二光学透镜和二向色镜/分束器。 12.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、色散光学器件；并且其中，至少一个光学检测器是光学检测器阵列。 13.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、色散光学器件；并且其中，至少一个光学检测器是光学检测器阵列。 14.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、色散光学器件、二向色镜/分束器；并且其中，至少一个光学检测器是光学检测器阵列。 15.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、色散光学器件、二向色镜/分束器；并且其中，至少一个光学检测器是光学检测器阵列。 16.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、色散光学器件、二向色镜/分束器；其中，至少一个光学检测器是光学检测器阵列；并且其中，所述照射源直接照射所述目标。 17.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学透镜、色散光学器件、二向色镜/分束器；其中，至少一个光学检测器是光学检测器阵列；并且其中，所述照射源直接照射所述目标。 18.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统使用所述傅立叶变换的至少一个谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 19.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统至少使用所述傅立叶变换的一次谐波和/或二次谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 20.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统仅使用所述傅立叶变换的一次谐波或仅使用所述傅立叶变换的二次谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 21.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统仅使用所述傅立叶变换的一次谐波且仅使用所述傅立叶变换的二次谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 22.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源通过同时传输所有照射波以每个照射波长照射所述目标。 23.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源通过同时传输所有照射波以每个照射波长照射所述目标。 24.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源通过顺序地传输每个波以每个照射波长照射所述目标。 25.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源通过顺序地传输每个波以每个照射波长照射所述目标。 26.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射。 27.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；并且其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括冷光。 28.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括冷光；并且其中，所述冷光包括荧光、磷光、或者它们的组合。 29.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射，并且其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括热辐射。 30.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；并且其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括冷光、热辐射、或者它们的组合。 31.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括冷光、热辐射、或者它们的组合；并且其中，所述冷光包括荧光、磷光、或者它们的组合。 32.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括荧光。 33.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括光学滤光系统；其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；并且其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括荧光。 34.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括放置在所述目标和所述至少一个光学检测器之间的光学滤光系统；其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；并且其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括荧光。 35.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中：所述至少一个光学组件还包括放置在所述目标和所述至少一个光学检测器之间的光学滤光系统；所述光学滤光系统包括二向色滤光器、分束器型滤光器、或者它们的组合；所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；并且由所述目标发射的所述电磁辐射包括荧光。 36.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括第一光学滤光系统和第二光学滤光系统；其中：所述第一光学滤光系统放置在所述目标和所述至少一个光学检测器之间；所述第二光学滤光系统放置在所述第一光学滤光系统和所述至少一个光学检测器之间；所述第一光学滤光系统包括二向色滤光器、分束器型滤光器、或者它们的组合；所述第二光学滤光系统包括陷波滤光器、有源滤光器、或者它们的组合；所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；并且由所述目标发射的所述电磁辐射包括荧光。 37.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学组件还包括第一光学滤光系统和第二光学滤光系统；其中：所述第一光学滤光系统放置在所述目标和所述至少一个光学检测器之间；所述第二光学滤光系统放置在所述第一光学滤光系统和所述至少一个光学检测器之间；所述第一光学滤光系统包括二向色滤光器、分束器型滤光器、或者它们的组合；所述第二光学滤光系统包括有源滤光器；所述有源滤光器包括自适应光学系统、声光可调滤光器、液晶可调带通滤光器、法布里-珀罗干涉滤光器、或者它们的组合；所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；并且由所述目标发射的电磁辐射包括荧光。 38.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述去噪滤光器包括中值滤光器。 39.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源包括相干电磁辐射源。 40.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源包括相干电磁辐射源。 41.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源包括相干电磁辐射源，并且所述相干电磁辐射源包括激光器、二极管、双光子激发源、三光子激发源、或者它们的组合。 42.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源包括相干电磁辐射源，并且所述相干电磁辐射源包括激光器、二极管、双光子激发源、三光子激发源、或者它们的组合。 43.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个检测器包括光电倍增管、光电倍增管阵列、数码相机、高光谱相机、电子倍增电荷耦合器件、Sci-CMOS、或者它们的组合。 44.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括至少四个波长。 45.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标包括包含有机化合物的目标。 46.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述目标包括包含有机化合物的目标；并且其中，所述目标包括组织、荧光遗传标记、或者它们的组合。 47.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，高光谱成像系统以1.2至50范围内的所述至少一个光谱的信噪比形成所述目标的所述非混色图像。 48.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述高光谱成像系统以2至50范围内的所述至少一个光谱的信噪比形成所述目标的所述非混色图像。 49.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学检测器检测由所述目标发射的所述电磁辐射，所述电磁辐射的波长在300nm至800nm的范围内。 50.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个光学检测器检测由所述目标发射的所述电磁辐射，所述电磁辐射的波长在300nm至800nm的范围内；并且其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括荧光。 51.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源辐射包括波长在300nm至1,300nm范围内的照射波。 52.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源辐射包括波长在300nm至1,300nm范围内的照射波。 53.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括单光子激发源；并且其中，所述照射源辐射包括波长在300nm至700nm范围内的照射波。 54.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括单光子激发源；并且其中，所述照射源辐射包括波长在300nm至700nm范围内的照射波。 55.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括双光子激发源；并且其中，所述照射源辐射包括波长在690nm至1,300nm范围内的照射波。 56.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括双光子激发源；并且其中，所述照射源辐射包括波长在690nm至1,300nm范围内的照射波。 57.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括双光子激发源；其中，所述双光子激发源包括可调激光器；并且其中，所述照射源辐射包括波长在690nm至1,300nm范围内的照射波。 58.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括双光子激发源；其中，所述双光子激发源包括可调激光器；并且其中，所述照射源辐射包括波长在690nm至1,300nm范围内的照射波。 59.根据权利要求2所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括单光子激发源、双光子激发源、或者它们的组合；其中，所述单光子辐射源的所述照射源辐射包括波长在300nm至700nm范围内的照射波；并且其中，所述双光子激发源的所述照射源辐射包括波长在690nm至1,300nm范围内的照射波。 60.根据权利要求3所述的高光谱成像系统，其中，所述至少一个照射源包括单光子激发源、双光子激发源、或者它们的组合；其中，所述单光子辐射源的所述照射源辐射包括照射波长在300nm至700nm范围内的波；并且其中，所述双光子激发源的照射源辐射包括波长在690nm至1,300nm范围内的照射波。 61.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色的配置。 62.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色的配置，并且其中，在生成所述目标的所述非混色图像之前生成所述参考材料的所述非混色图像。 63.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色的配置，其中，在生成所述目标的非混色图像之前生成所述参考材料的所述非混色图像，并且其中，所述参考材料包括物理结构、化学分子、生物分子、由疾病引起的物理变化和/或生物变化、或者它们的任何组合。 64.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色并诊断健康状况的配置。 65.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色并诊断健康状况的配置；并且其中，在生成所述目标的非混色图像之前生成所述参考材料的所述非混色图像。 66.根据权利要求1所述的高光谱成像系统，其中，图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色并诊断健康状况的配置；其中，在生成所述目标的非混色图像之前生成所述参考材料的所述非混色图像；并且其中，所述参考材料包括物理结构、化学分子、生物分子、由疾病引起的物理变化和/或生物变化、或者它们的任何组合。 67.一种用于生成目标的非混色图像的高光谱成像系统，包括：图像形成系统；其中，所述图像形成系统具有用于以下的配置：获得包括至少两个目标波的目标辐射，每个波具有强度和不同的波长；形成目标图像，其中，所述目标图像包括至少两个像素，并且其中，每个像素对应于所述目标上的一个物理点；使用每个目标波的所述强度和所述波长为每个像素形成至少一个强度谱；使用傅立叶变换将形成的每个像素的强度谱变换为基于每个像素的所述强度谱的复值函数，其中，每个复值函数具有至少一个实部和至少一个虚部；对每个复值函数的所述实部和所述虚部应用去噪滤光器至少一次，以便为每个像素产生去噪的实数值和去噪的虚数值；通过描绘每个像素的所述去噪的实数值与所述去噪的虚数值，为每个像素形成一个相量点；基于相量平面上的所述相量点的几何位置，将所述相量点映射回所述目标图像上的相应像素；基于所述相量平面上的所述相量点的几何位置，将任意颜色分配给所述相应像素；和基于分配的任意颜色生成所述目标的非混色图像。 68.一种用于生成目标的非混色图像的高光谱成像系统，包括：图像形成系统；其中，所述图像形成系统具有用于以下的配置：获取目标图像，其中，所述目标图像包括至少两个像素，并且其中，每个像素对应于所述目标上的一个物理点；获取每个像素的至少一个强度谱，其中，所述强度谱包括至少两个强度点；使用傅立叶变换将每个像素的所述强度谱变换为基于每个像素的所述强度谱的复值函数，其中，每个复值函数具有至少一个实部和至少一个虚部；对每个复值函数的所述实部和所述虚部二者应用去噪滤光器至少一次，以便为每个像素产生去噪的实数值和去噪的虚数值；通过描绘每个像素的所述去噪的实数值与所述去噪的虚数值，为每个像素形成一个相量点；基于相量平面上的相量点的几何位置，将所述相量点映射回所述目标图像上的相应像素；基于所述相量平面上的所述相量点的几何位置，将任意颜色分配给所述相应像素；和基于分配的任意颜色生成所述目标的非混色图像。 69.一种用于生成目标的非混色图像的高光谱成像系统，包括：光学系统；和图像形成系统；其中：所述光学系统包括至少一个光学检测器；所述至少一个光学检测器具有用于以下的配置：检测由所述目标上的至少一个物理点吸收、透射、折射、反射和/或发射的目标辐射，所述目标辐射包括至少两个目标波，每个目标波具有强度和不同的波长；检测每个目标波的所述强度和所述波长；和将检测到的目标辐射和每个目标波的强度和波长传输到所述图像形成系统；所述图像形成系统具有用于以下的配置：形成目标图像，其中，所述目标图像包括至少两个像素，并且其中，每个像素对应于所述目标上的一个物理点；使用检测到的每个目标波的强度和波长，为每个像素形成至少一个强度谱；使用傅立叶变换将形成的每个像素的强度谱变换为基于每个像素的所述强度谱的复值函数，其中，每个复值函数具有至少一个实部和至少一个虚部；对每个复值函数的所述实部和所述虚部二者应用去噪滤光器至少一次，以便为每个像素产生去噪的实数值和去噪的虚数值；通过描绘每个像素的所述去噪的实数值与所述去噪的虚数值，为每个像素形成一个相量点；基于相量平面上的所述相量点的几何位置，将所述相量点映射回所述目标图像上的相应像素；基于所述相量平面上的所述相量点的几何位置，将任意颜色分配给所述相应像素；和基于分配的任意颜色生成所述目标的非混色图像。 70.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括冷光、热辐射、或者它们的组合。 71.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述目标辐射包括由所述目标发射的电磁辐射；其中，由所述目标发射的所述电磁辐射包括荧光、磷光、或者它们的组合。 72.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统在所述图像形成系统的显示器上显示所述目标的所述非混色图像。 73.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统包括控制系统、硬件处理器、存储器、显示器、或者它们的组合。 74.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述高光谱成像系统还包括光学系统；其中，所述光学系统包括至少一个光学组件；其中，所述至少一个光学组件还包括照射源；其中，所述照射源产生照射源辐射，所述照射源辐射包括至少一个照射波或至少两个照射波；并且其中，每个照射波具有不同的波长。 75.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述高光谱成像系统还包括光学系统；其中，所述光学系统包括至少一个光学组件；其中，所述至少一个光学组件包括至少一个光学检测器、第一光学透镜、第二光学透镜、光学滤光器、色散光学系统、二向色镜/分束器、放置在所述目标和所述至少一个光学检测器之间的第一光学滤光系统、放置在所述第一光学滤光系统和所述至少一个光学检测器之间的第二光学滤光系统、或者它们的组合。 76.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中所述高光谱成像系统的所述光学组件配置为形成显微镜。 77.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述高光谱成像系统的所述光学组件配置为形成共焦荧光显微镜、双光子荧光显微镜、或者它们的组合。 78.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述照射源辐射包括至少一个照射波或至少两个照射波，并且其中，每个照射波具有不同的波长。 79.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统使用所述傅立叶变换的至少一个谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 80.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统使用所述傅立叶变换的至少一次谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 81.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统使用所述傅立叶变换的至少二次谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 82.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统至少使用所述傅立叶变换的一次谐波和二次谐波来生成所述目标的所述非混色图像。 83.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色的配置。 84.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色的配置，并且其中，在生成所述目标的非混色图像之前，生成所述参考材料的所述非混色图像。 85.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色的配置，其中，在生成所述目标的非混色图像之前，生成所述参考材料的所述非混色图像，并且其中，所述参考材料包括物理结构、化学分子、生物分子、由疾病引起的物理变化和/或生物变化、或者它们的任何组合。 86.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色并诊断健康状况的配置。 87.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，所述图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色并诊断健康状况的配置；并且其中，在生成所述目标的非混色图像之前，生成所述参考材料的所述非混色图像。 88.根据前述权利要求中任一项所述的高光谱成像系统，其中，图像形成系统具有使用参考材料为每个像素分配任意颜色并诊断健康状况的配置；其中，在生成所述目标的非混色图像之前，生成所述参考材料的所述非混色图像；并且其中，所述参考材料包括物理结构、化学分子、生物分子、由疾病引起的物理变化和/或生物变化、或者它们的任何组合。 89.前述权利要求中任一项中公开的系统特征的任何组合都在本公开的范围内。
所属类别：	发明专利