专利名称: |
一种铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀的电化学方法 |
摘要: |
本发明涉及一种铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀的电化学方法,包括以下步骤:取含铁素体相体积百分数12%~20%的铸造奥氏体不锈钢样品,配置稀硫酸和稀盐酸的混合溶液作为刻蚀介质;采用三电极体系,纯铂电极为辅助电极,铸造奥氏体不锈钢样品为工作电极,饱和甘汞电极为参比电极;采用动电位仪对所述铸造奥氏体不锈钢样品进行极化曲线测试;对所述铸造奥氏体不锈钢样品施加恒电位进行刻蚀;观察刻蚀后样品的组织形貌和分布。本发明的有益效果为:所需设备简单、易于操作、适用范围广,能实现不同铁素体含量的铸造奥氏体不锈钢的单相刻蚀,能够实现全面、准确、清晰的铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
江苏;32 |
申请人: |
无锡光旭新材料科技有限公司 |
发明人: |
王永强;赵昱;张洁清 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-02-28T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-06-21T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910148941.2 |
公开号: |
CN109916692A |
代理机构: |
北京纽乐康知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
苏泳生 |
分类号: |
G01N1/32(2006.01);G;G01;G01N;G01N1 |
申请人地址: |
214187 江苏省无锡市惠山经济开发区洛社配套区 |
主权项: |
1.一种铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀的电化学方法,其特征在于,包括以下步骤: S1:取铸造奥氏体不锈钢样品,配置稀硫酸和稀盐酸的混合溶液作为刻蚀介质; S2:采用三电极体系,纯铂电极为辅助电极,铸造奥氏体不锈钢样品为工作电极,饱和甘汞电极为参比电极; S3:采用动电位仪对所述铸造奥氏体不锈钢样品进行极化曲线测试; S4:对所述铸造奥氏体不锈钢样品施加恒电位进行刻蚀; S5:用扫描电化学显微镜或放大倍数不低于500倍的光学显微镜观察刻蚀后样品的组织形貌和分布。 2.根据权利要求1所述的一种铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀的电化学方法,其特征在于,在步骤S1中,所述铸造奥氏体不锈钢中铁素体的体积分数含量为12%~20% 。 3.根据权利要求1所述的一种铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀的电化学方法,其特征在于,在步骤S1中,所述刻蚀介质中稀硫酸的摩尔浓度为2.0mol/L,稀盐酸的摩尔浓度为0.1~0.5mol/L,控制体系温度为25℃。 4.根据权利要求1所述的一种铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀的电化学方法,其特征在于,在所述步骤S3中,进行极化曲线测试时开始扫描电位比开路电位低0.20V,电位扫描速率为20mV/min,结束电位为0.15~0.3V。 5.根据权利要求1所述的一种铸造奥氏体不锈钢单相刻蚀的电化学方法,其特征在于,在所述步骤S4中,进行刻蚀时施加-0.25 V ~ -0.15 V的恒电位,刻蚀时间为1~1.5h。 |
所属类别: |
发明专利 |