详情

原文传递一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺

专利名称：	一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺
摘要：	本发明涉及陶瓷制造技术领域，具体的涉及一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺。该种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺，包括陶瓷坯体，还包括底釉层、刻花层和面釉层，所述刻花层与底釉层设置于陶瓷坯体外的同一个平面上、且刻花层由在底釉层上的缺釉部分构成，所述面釉层覆盖于底釉层与刻花层上。本发明提供的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷，使用底釉层、刻花层和面釉层的三层结构，该种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷实现两次施釉、一次烧制成型。提供了一种全新的定窑刻花效果的制备方法，大幅提高了生成效率，可满足不同造型陶瓷的制作，对推动定窑陶瓷产品的发展具有积极的意义而且具有积极的经济效益。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	福建;35
申请人：	福建省德化县全丰陶瓷有限公司
发明人：	曾文昌;连天星;曾庆波;曾劲龙
专利状态：	有效
申请日期：	2019-04-15T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-25T00:00:00+0800
申请号：	CN201910298689.3
公开号：	CN109927158A
代理机构：	北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	刘玉欣
分类号：	B28B11/04(2006.01);B;B28;B28B;B28B11
申请人地址：	362500 福建省泉州市德化县盖德乡盖德村80号
主权项：	1.一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺，包括陶瓷坯体，其特征在于：还包括底釉层、刻花层和面釉层，所述刻花层与底釉层设置于陶瓷坯体外的同一个平面上、且刻花层由在底釉层上的缺釉部分构成，所述面釉层覆盖于底釉层与刻花层上。 2.根据权利要求1所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺，其特征在于：所述面釉层的原料重量份如下：高岭土30－40份、石英20－30份、玛瑙10－15份、钾长石10－15份、锆英石5－10份、磷酸三钙1－5份。 3.根据权利要求1所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺，其特征在于：所述底釉层的的原料重量份如下：白云土20－30份、钾长石20－30份、高岭土10－20份、滑石10－20份、白粘土10－15份、硅藻土5－10份。 4.一种机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺的制作工艺，制作要求1－3任意一项所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷，具体步骤如下：步骤1，制备陶瓷坯体，将制好的陶瓷坯体修坯成型；步骤2，在陶瓷坯体白面设置刻花层的缺釉部分，在陶瓷坯体表上施底釉，底釉在刻花层上形成缺釉效果；步骤3，等待底釉干燥后，在底釉上施面釉，覆盖于底釉层与刻花层上；步骤4，将陶瓷坯体放入窑炉中，烧制成型，烧成温度为1280－1300℃，获得机制定窑刻花效果的艺术陶瓷。 5.根据权利要求4所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺的制作工艺，其特征在于：所述步骤2中，使用贴纸在陶瓷坯体表面贴出刻花层的缺釉部分，等待底釉干燥后，揭去贴纸形成缺釉效果的刻花层。 6.根据权利要求5所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺的制作工艺，其特征在于：所述贴纸于底釉接触的一面设有拨釉剂。 7.根据权利要求4所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺的制作工艺，其特征在于：所述步骤2中，将陶瓷坯体放入移印机中，移印机蘸拨釉剂后在陶瓷坯体上印出刻花层的缺釉部分，施底釉时底釉与拨水剂形成缺釉效果的刻花层。 8.根据权利要求4所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺的制作工艺，其特征在于：所述底釉层的厚度大于等于0.3mm。 9.根据权利要求4所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺的制作工艺，其特征在于：步骤3中，施底釉后的陶瓷坯放入干燥室中，经温度70－90℃、干燥时间为5－10小时。 10.根据权利要求4或9所述的机制定窑刻花效果的艺术陶瓷及其制备工艺的制作工艺，其特征在于：步骤3中，陶瓷坯体干燥至表面含水率为0.2－0.5％时，施面釉。
所属类别：	发明专利