专利名称: |
真空机头辊 |
摘要: |
公开了一种用于在制造过程中传送材料的设备。所公开的真空输送机系统可包括:在第一箱端部和第二箱端部之间延伸的真空箱,所述真空箱包括真空箱真空室;邻近所述第一箱端部设置的机头辊,所述机头辊包括机头辊真空室;以及多孔构件,所述多孔构件围绕所述机头辊和所述真空箱两者设置。所述真空系统还可包括将所述真空箱真空室连接到真空源的第一气流管道和将所述机头辊真空室连接到所述真空源的第二气流管道。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
美国;US |
申请人: |
金伯利-克拉克环球有限公司 |
发明人: |
R·M·考耐特克;M·B·文图里诺;M·马蒂奥利 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2016-12-16T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-06-28T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201680090841.3 |
公开号: |
CN109952260A |
代理机构: |
北京泛华伟业知识产权代理有限公司 |
代理人: |
胡强 |
分类号: |
B65G39/02(2006.01);B;B65;B65G;B65G39 |
申请人地址: |
美国威斯康星州 |
主权项: |
1.一种真空输送机系统,其包括: 真空箱,所述真空箱在第一箱端部和第二箱端部之间延伸并且包括第一分立真空室; 机头辊,所述机头辊邻近所述第一箱端部设置并且包括第二分立真空室;以及 多孔构件,所述多孔构件围绕所述机头辊和所述真空箱两者设置。 2.根据权利要求1所述的系统,其中单个真空源向所述第一分立真空室和所述第二分立真空室两者提供真空。 3.根据权利要求1所述的系统,其中第一真空源向所述第一分立真空室提供真空,并且其中第二真空源向所述第二分立真空室提供真空。 4.根据权利要求1所述的系统,其中所述第二分立真空室在所述第一分立真空室的外部。 5.根据权利要求1所述的系统,其中所述第一箱端部包括所述真空输送机系统的入口端。 6.根据权利要求1所述的系统,其中所述第二分立真空室基本上不含障碍物。 7.根据权利要求1所述的系统,其中所述机头辊包括惰轴和传动辊,并且其中所述惰轴内的凹陷部形成所述第二分立真空室。 8.根据权利要求7所述的系统,其中由所述凹陷部界定的区域的横截面面积占所述惰轴的不包括所述凹陷部的部分的横截面面积的约25%至约50%。 9.根据权利要求7所述的系统,其中所述传动辊包括多个孔以允许气流进入所述第二分立真空室,并且其中所述孔被倒角。 10.根据权利要求7所述的系统,其还包括: 邻近所述传动辊设置的气流管道;以及 将所述传动辊连接到所述气流管道的迷宫式密封件。 11.一种真空输送机系统,其包括: 在第一箱端部和第二箱端部之间延伸的真空箱,所述真空箱包括真空箱真空室; 邻近所述第一箱端部设置的机头辊,所述机头辊包括机头辊真空室; 多孔构件,所述多孔构件围绕所述机头辊和所述真空箱两者设置; 第一分立气流管道,所述第一分立气流管道将所述真空箱真空室连接到真空源; 第二分立气流管道,所述第二分立气流管道将所述机头辊真空室连接到所述真空源。 12.根据权利要求11所述的系统,其中所述第二分立气流管道至少部分地延伸穿过所述真空箱真空室。 13.根据权利要求11所述的系统,其中所述第一分立气流管道将所述真空箱真空室连接到第一真空源,并且其中所述第二分立气流管道将所述机头辊真空室连接到与所述第一真空源分开的第二真空源。 14.根据权利要11所述的系统,其还包括在所述第二分立气流管道和所述机头辊之间的迷宫式密封件。 15.根据权利要求14所述的系统,其中所述迷宫式密封件包括密封构件,并且其中所述密封构件围绕所述机头辊延伸等于所述机头辊的周长的5%至25%的长度。 16.根据权利要求11所述的系统,其中所述第二分立气流管道包括可调节的入口板。 17.一种真空输送机系统,其包括: 在第一箱端部和第二箱端部之间延伸的真空箱,所述真空箱包括真空箱真空室; 邻近所述第一箱端部设置的机头辊,所述机头辊包括机头辊真空室;以及 多孔构件,所述多孔构件围绕所述机头辊和所述真空箱两者设置;并且 其中所述机头辊真空室基本上不含障碍物。 18.根据权利要求17所述的系统,其还包括: 第一气流管道,所述第一气流管道将所述真空箱真空室连接到第一真空源;以及 第二气流管道,所述第二气流管将所述机头辊真空室连接到所述第一真空源或所述第二真空源。 19.根据权利要求17所述的系统,其中所述机头辊包括惰轴和传动辊,并且其中所述惰轴内的凹陷部形成所述机头辊真空室。 20.根据权利要求19所述的系统,其中由所述凹陷部界定的区域的横截面面积占所述惰轴的不包括所述凹陷部的部分的横截面面积的约25%至约50%。 |
所属类别: |
发明专利 |